买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜无锡亘芯悦科技有限公司申请的专利半导体测量系统及半导体测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119959269B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510445680.6，技术领域涉及：G01N23/2251；该发明授权半导体测量系统及半导体测量方法是由邵加强;李波;王猛;周子恺设计研发完成，并于2025-04-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本半导体测量系统及半导体测量方法在说明书摘要公布了：本申请涉及一种半导体测量系统及半导体测量方法。该半导体测量系统包括：图案成像装置、第一测量装置、第二测量装置和测量控制装置。图案成像装置用于成像光栅图案，将光栅图案转换为第一光栅图案和第二光栅图案，并将第一光栅图案成像至待测半导体结构的位于第一测量装置下方的表面，将第二光栅图案成像至待测半导体结构的位于第二测量装置下方的表面。第一测量装置用于测量第一光栅图案。第二测量装置用于测量第二光栅图案。测量控制装置用于根据第一测量装置和第二测量装置测量的测量结果实时调整待测半导体结构的放置位置。本申请可以具有较快的测量速度和较高的测量精度。

本发明授权半导体测量系统及半导体测量方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体测量系统，其特征在于，包括： 图案成像装置，用于成像光栅图案，将所述光栅图案转换为第一光栅图案和第二光栅图案，并将所述第一光栅图案成像至待测半导体结构的位于第一测量装置下方的表面，将所述第二光栅图案成像至所述待测半导体结构的位于第二测量装置下方的表面； 第一测量装置，用于测量所述第一光栅图案； 第二测量装置，用于测量所述第二光栅图案； 测量控制装置，连接所述第一测量装置、所述第二测量装置以及放置所述待测半导体结构的工作平台，用于根据所述第一测量装置测量的所述第一光栅图案和所述第二测量装置测量的所述第二光栅图案实时调整所述待测半导体结构的放置位置； 其中，所述图案成像装置包括： 光源，用于出射光信号； 光学掩模版，具有测试图案； 第一成像装置，位于所述光学掩模版远离所述光源的一侧，用于响应所述光信号基于所述测试图案成像所述光栅图案； 第二成像装置，位于所述第一成像装置远离所述光学掩模版的一侧，用于接收所述光栅图案，将所述光栅图案转换为所述第一光栅图案和所述第二光栅图案，并将所述第一光栅图案成像至所述待测半导体结构的位于所述第一测量装置下方的表面，将所述第二光栅图案成像至所述待测半导体结构的位于所述第二测量装置下方的表面。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人无锡亘芯悦科技有限公司，其通讯地址为：214000 江苏省无锡市新吴区景贤路6号中国物联网国际创新园H3-201；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。