江苏迈纳德微纳技术有限公司樊子冉获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏迈纳德微纳技术有限公司申请的专利一种应用于光学工件镀膜的原子层沉积装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223047591U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422264858.0，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型一种应用于光学工件镀膜的原子层沉积装置是由樊子冉;徐涛;左雪芹;谢耀设计研发完成，并于2024-09-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种应用于光学工件镀膜的原子层沉积装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种应用于光学工件镀膜的原子层沉积装置，属于光学镀膜技术领域。通过对反应腔及样品放置方式做出了改进，提供了一种多功能反应腔，拓宽了设备的应用范围，节约了设备成本，通过针对不同的光学元件设计了不同的元件支架，并通过悬挂方式防止样品，实现了对于光学元件两面的同时镀膜处理，而且本申请方案还设计了批量式支架，可对光学元件进行批量镀膜处理，加快了镀膜效率。
本实用新型一种应用于光学工件镀膜的原子层沉积装置在权利要求书中公布了：1.一种应用于光学工件镀膜的原子层沉积装置，其特征在于，所述装置包括：升降式腔体盖、真空腔体3和腔体底座4，其中升降式腔体盖包括升降机构1和腔盖2，所述腔盖2底部设置有挂钩11，用于悬挂元件支架；所述元件支架包括立方棱镜元件支架12、单层多片式支架16和批量式支架17；所述真空腔体3内设置有一个反应腔14。
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