阿瓦瓦公司J·巴瓦尔卡获国家专利权
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龙图腾网获悉阿瓦瓦公司申请的专利用于治疗设备的反馈检测获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114727841B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080078590.3，技术领域涉及：A61B18/20；该发明授权用于治疗设备的反馈检测是由J·巴瓦尔卡;R·凯特卡姆;L·J·莱文;C·H·德雷瑟设计研发完成，并于2020-11-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于治疗设备的反馈检测在说明书摘要公布了：根据一些实施例，一种用于分次治疗组织的系统包括：电磁辐射EMR源，被配置为产生具有横向环形能量分布的EMR光束；光学器件，被配置为将该EMR光束会聚到位于组织内的聚焦区域；以及窗口组件，位于该光学器件的下光束，该窗口组件被配置为当被放置成与该组织的外表面接触时冷却该组织。
本发明授权用于治疗设备的反馈检测在权利要求书中公布了：1.一种基于电磁辐射治疗的系统，包括： 电磁辐射源，被配置为产生具有波长在1200nm至12000nm范围内的EMR光束； 光束整形器，包括第一轴锥镜和第二轴锥镜，被配置为将所述EMR光束整形为横向环形能量分布； 光学器件，被配置为将所述EMR光束会聚到位于组织内的聚焦区域； 光束扫描系统，被配置为扫描所述组织内的所述聚焦区域； 窗口组件，位于所述光学器件的下光束，被配置为当被放置成与所述组织的外表面接触时传输所述EMR光束并且冷却所述组织，其中所述窗口组件包括： 第一窗口； 第二窗口，与所述第一窗口分离；以及 冷却剂腔室，位于所述第一窗口和所述第二窗口之间，其中所述冷却剂腔室被配置为容纳冷却剂，所述冷却剂包括基本上不吸收所述EMR光束的氟碳基流体；以及 控制器，被配置为控制所述电磁辐射源以产生具有多个脉冲的所述EMR光束，其中所述多个脉冲中的至少一个脉冲具有不小于100微秒的脉冲持续时间。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人阿瓦瓦公司，其通讯地址为：美国马萨诸塞州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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