应用材料公司史蒂文·C·洪获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利栅界面工程的新方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114746982B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080084121.2，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权栅界面工程的新方法是由史蒂文·C·洪设计研发完成，并于2020-10-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本栅界面工程的新方法在说明书摘要公布了：可以执行处理方法以产生可以包括高k介电材料的半导体结构。该方法可以包括从基板的表面移除原生氧化物。所述方法可以包括将一氧化二氮传递至基板并热退火表面以形成含氧化物的界面。该方法可以包括将含氮前驱物或含氧前驱物传递到被容纳在半导体处理腔室中的基板。该方法可以包括利用含氮前驱物或含氧前驱物在基板的暴露表面上形成反应性配体。该方法还可包括形成覆盖基板的高k介电材料。
本发明授权栅界面工程的新方法在权利要求书中公布了：1.一种形成半导体结构的方法，所述方法包括下列步骤： 从基板的表面移除原生氧化物； 将一氧化二氮传递至所述基板并热退火所述表面以形成含氧化物界面； 将含氮前驱物或含氧前驱物传递至所述基板； 在将所述基板维持在约500℃至约700℃之间的温度的同时利用所述含氮前驱物或所述含氧前驱物在所述含氧化物界面上引入反应性配体，其中引入了所述反应性配体的所述含氧化物界面是包括羟基或胺基封端的表面；和 在引入了所述反应性配体之后，形成覆盖所述含氧化物界面的高k介电材料。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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