恭喜美光科技公司K·M·考尔道获国家专利权
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龙图腾网恭喜美光科技公司申请的专利含有二维材料的集成组合件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114450803B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080064284.4，技术领域涉及：H10D62/13；该发明授权含有二维材料的集成组合件是由K·M·考尔道;C·穆利;刘海涛设计研发完成，并于2020-07-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本含有二维材料的集成组合件在说明书摘要公布了：一些实施例包含具有半导体材料的集成组合件，所述半导体材料具有与较少掺杂区相邻的较多掺杂区。二维材料位于所述较多掺杂区与所述较少掺杂区的一部分之间。一些实施例包含集成组合件，所述集成组合件含有半导体材料、所述半导体材料之上的含金属材料，和所述半导体材料的一部分与所述含金属材料之间的二维材料。一些实施例包含晶体管，所述晶体管具有第一源极漏极区、第二源极漏极区、所述第一源极漏极区与所述第二源极漏极区之间的沟道区，和所述沟道区与所述第一源极漏极区之间的二维材料。
本发明授权含有二维材料的集成组合件在权利要求书中公布了：1.一种集成组合件，其包括： 半导体材料，其具有与较少掺杂区相邻的较多掺杂区；以及 扩散阻挡区，其位于所述较多掺杂区与所述较少掺杂区的一部分之间，所述扩散阻挡区包括多个层并且具有至少两个不同的二维材料层，所述两个不同的二维材料层由插入区彼此间隔开。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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