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龙图腾网获悉中建材光电装备(太仓)有限公司申请的专利磁控溅射镀膜玻璃及其制备工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119735383B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510135525.4，技术领域涉及：C03C17/36；该发明授权磁控溅射镀膜玻璃及其制备工艺是由张金鹏;沈晓晨;王家亮;张山山;周慕蓉设计研发完成，并于2025-02-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本磁控溅射镀膜玻璃及其制备工艺在说明书摘要公布了：本发明公开了磁控溅射镀膜玻璃及其制备工艺，涉及低辐射玻璃技术领域，磁控溅射镀膜玻璃包括玻璃基板，所述玻璃基板的上表面由下至上依次层叠设置有以下膜层：第一膜层氮化硅层，第二膜层氧化钛层，第三膜层氧化锌铝层，第四膜层金属银层，第五膜层金属钛层，第六膜层氧化钛层，第七膜层氧化锌铝层，第八膜层金属银层，第九膜层金属钛层，第十膜层氧化钛层，第十一膜层氧化锌铝层，第十二膜层金属银层，第十三膜层金属钛层，第十四膜层氧化钛层，第十五膜层氧化锌硅层，第十六膜层氮化硅。本发明通过在玻璃基体表面利用磁控溅射沉积设置多层介质膜、界面膜和金属膜，形成低辐射膜系，实现镀膜玻璃对可见光的透射和对红外光的反射。

本发明授权磁控溅射镀膜玻璃及其制备工艺在权利要求书中公布了：1.磁控溅射镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：包括以下工艺步骤： （1）以氩气为工作气体、氮气为反应气体，硅为靶材，进行直流磁控溅射，沉积形成氮化硅层； （2）以氩气为工作气体，二氧化钛为靶材，进行直流磁控溅射，沉积形成氧化钛层； （3）以氩气为工作气体，氧化锌铝为靶材，进行直流磁控溅射，沉积形成氧化锌铝层； （4）以氩气为工作气体，银为靶材，进行交流磁控溅射，沉积形成金属银层； （5）以氩气为工作气体、氢气为反应气体，钛为靶材，进行交流磁控溅射，沉积形成金属钛层； （6）以氩气为工作气体，三氟甲烷为反应气体，复合二氧化硅为靶材，进行直流磁控溅射，沉积形成氧化硅掺杂层； （7）将步骤（3）-（6）重复操作两次，依次形成氧化锌铝层、金属银层、金属钛层、氧化硅掺杂层、氧化锌铝层、金属银层、金属钛层和氧化硅掺杂层； （8）以氩气为工作气体，氧化锌硅为靶材，进行直流磁控溅射，沉积形成氧化锌硅层； （9）以氩气为工作气体、氮气为反应气体，硅为靶材，进行直流磁控溅射，沉积形成氮化硅层，得到镀膜玻璃； 所述靶材，复合二氧化硅由以下工艺制得： 将正硅酸乙酯、乙醇和氟化铵混合，利用盐酸调节pH至3.5～4.5，静置水解8～24h，得到胶液； 将二氧化硅、石墨球磨，加入水解液混合，制备混合料；热压烧结，得到复合二氧化硅。

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