珠海市龙图光罩科技有限公司廖文超获国家专利权
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龙图腾网获悉珠海市龙图光罩科技有限公司申请的专利掩模版的光刻方法、装置、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119356023B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411482986.0，技术领域涉及：G03F1/72；该发明授权掩模版的光刻方法、装置、设备及存储介质是由廖文超;雷健;崔嘉豪;余飞鸽设计研发完成，并于2024-10-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩模版的光刻方法、装置、设备及存储介质在说明书摘要公布了：本申请公开了一种掩模版的光刻方法、装置、设备及存储介质，涉及掩模版制造技术领域，公开了掩模版的光刻方法，包括：获取掩模版的曝光图形；将所述曝光图形输入至位置偏差修正模型，获得所述掩模版经所述位置偏差模型修正后的位置修正数据，所述位置偏差修正模型是基于负载率修正系数与位置修正系数修正的热扩散算法搭建的；基于所述位置修正数据修正光刻所述掩模版的光刻机的初始运动数据，获所述光刻机的修正运动数据，并基于所述修正运动数据控制所述光刻机光刻所述掩模版。也即，利用位置偏差修正模型精准的输出掩模版上各图形区域的位置修正数据，以通过位置修正数据提高修正掩模板位置精度偏差的效果。
本发明授权掩模版的光刻方法、装置、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种掩模版的光刻方法，其特征在于，所述的方法包括： 获取掩模版的曝光图形； 将所述曝光图形输入至位置偏差修正模型，获得所述掩模版经所述位置偏差模型修正后的位置修正数据，所述位置偏差修正模型是基于负载率修正系数与位置修正系数修正的热扩散算法搭建的，其中，所述负载率是预设区域内有图形区域占总区域面积的比例； 其中，所述将所述曝光图形输入至位置偏差修正模型，获得所述掩模版经所述位置偏差模型修正后的位置修正数据的步骤包括： 将所述曝光图形输入至位置偏差修正模型，基于所述位置偏差修正模型中的热扩散修正算法，确定所述掩模板上各图形区域的温度波动图； 基于所述位置偏差修正模型中热膨胀算法，将所述温度波动度转化为位置偏差图，以使所述位置偏差模型基于所述位置偏差图，输出所述掩模版的位置修正数据； 基于所述位置修正数据修正光刻所述掩模版的光刻机的初始运动数据，获所述光刻机的修正运动数据，并基于所述修正运动数据控制所述光刻机光刻所述掩模版。
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