原子高科股份有限公司刘明阳获国家专利权
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龙图腾网获悉原子高科股份有限公司申请的专利一种大面积β放射源的电沉积槽获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223074295U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422343756.8，技术领域涉及：C25D17/00；该实用新型一种大面积β放射源的电沉积槽是由刘明阳;任春侠;焦华洁;李翔;陈伊婷;付绍海;高岩设计研发完成，并于2024-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种大面积β放射源的电沉积槽在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种大面积β放射源的电沉积槽，包括：沉积槽固定架、压力支架和槽体；槽体内盛装有电沉积液，槽体的顶部设有供阳极丝穿过且深入电沉积液内的第一通孔，槽体的底部设有下开口且下开口处设有垫片；沉积槽固定架包括阴极底座和架设在阴极底座上的门型架，阴极底座上设有与槽体相配合的凹槽，凹槽内放置有电沉积源片，槽体的下端置于凹槽内，且槽体内的电沉积液与电沉积源片相接触；门型架上螺接有压力杆，压力杆的下端作用于压力支架，压力支架置于槽体上；通过压力杆所施加的压力，垫片与电沉积源片紧密接触。本实用新型将现有槽体的螺丝紧固方式更改为压力紧固，提高了拆装效率，整个电沉积槽的受力均匀，电沉积液不会发生泄漏。
本实用新型一种大面积β放射源的电沉积槽在权利要求书中公布了：1.一种大面积β放射源的电沉积槽，其特征在于，包括：沉积槽固定架、压力支架和槽体； 所述槽体内盛装有电沉积液，所述槽体的顶部设有供阳极丝穿过且深入电沉积液内的第一通孔，所述槽体的底部设有下开口且下开口处设有垫片； 所述沉积槽固定架包括阴极底座和架设在所述阴极底座上的门型架，所述阴极底座上设有与所述槽体相配合的凹槽，所述凹槽内放置有电沉积源片，所述槽体的下端置于所述凹槽内，且所述槽体内的电沉积液与所述电沉积源片相接触；所述门型架上螺接有压力杆，所述压力杆的下端作用于所述压力支架，所述压力支架置于所述槽体上；通过所述压力杆所施加的压力，所述垫片与所述电沉积源片紧密接触。
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