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龙图腾网获悉原子高科股份有限公司申请的专利一种用于制备Ni-63放射源的电沉积装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223074296U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422343757.2，技术领域涉及：C25D17/00；该实用新型一种用于制备Ni-63放射源的电沉积装置是由刘明阳;任春侠;焦华洁;李翔;陈伊婷;付绍海;高岩设计研发完成，并于2024-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于制备Ni-63放射源的电沉积装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种用于制备Ni‑63放射源的电沉积装置，槽体具有用于容纳电沉积液的空腔，槽体上设有与空腔相连通的第一固定孔、第二固定孔、第一阶梯孔、第二阶梯孔和抽气孔；沉积源片固定架固定在第一固定孔上，沉积源片固定架上安装有沉积源片且沉积源片浸入电沉积液内；沉积源片固定螺塞固定于第一阶梯孔上且端部抵在沉积源片上；电极丝固定架固定在第二固定孔上，电极丝固定架上安装有阳极丝且阳极丝浸入电沉积液内，阳极丝与沉积源片平行且相对设置；加热片固定螺塞固定在第二阶梯孔上，以固定加热片。本实用新型可制备出镀层均匀致密光亮的Ni‑63放射源，同时其能够控制电沉积液温度恒定，同时副反应生成的氢气可及时驱离。

本实用新型一种用于制备Ni-63放射源的电沉积装置在权利要求书中公布了：1.一种用于制备Ni-63放射源的电沉积装置，其特征在于，包括：槽体、沉积源片固定架、沉积源片固定螺塞、电极丝固定架和加热片固定螺塞； 所述槽体具有用于容纳电沉积液的空腔，所述槽体的顶部设有与所述空腔相连通的第一固定孔和第二固定孔，所述槽体上设有与所述空腔相连通的第一阶梯孔、第二阶梯孔和抽气孔；所述第一阶梯孔设置在所述槽体靠近第一固定孔的端面上； 所述沉积源片固定架固定在所述第一固定孔上，所述沉积源片固定架上安装有沉积源片且所述沉积源片浸入电沉积液内，所述沉积源片与电源负极相连；所述沉积源片固定螺塞固定于所述第一阶梯孔上且所述沉积源片固定螺塞的端部抵在所述沉积源片上； 所述电极丝固定架固定在所述第二固定孔上，所述电极丝固定架上安装有阳极丝且所述阳极丝浸入电沉积液内，所述阳极丝与沉积源片平行且相对设置，所述阳极丝与电源正极相连； 所述第二阶梯孔为外大内小的孔，所述第二阶梯孔的台阶处设有加热片；所述加热片固定螺塞固定在所述第二阶梯孔上，以固定所述加热片。

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