安徽国芯光刻技术有限公司薛业保获国家专利权
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龙图腾网获悉安徽国芯光刻技术有限公司申请的专利一种晶圆升降结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223079108U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422251792.1，技术领域涉及：H01L21/683；该实用新型一种晶圆升降结构是由薛业保;章广飞;王运钢设计研发完成，并于2024-09-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种晶圆升降结构在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种晶圆升降结构，包括底座、设置在底座上的升降组件、以及设置在升降组件上并对晶圆端面进行吸附固定的吸附组件，其特征在于，升降组件包括三根呈圆周阵列垂直设置在底座上方的顶管、以及设置在底座上并控制三根顶管在底座上方进行升降运动的升降组件，顶管底端连接吸附装置；吸附组件包括设置在三根顶管顶端上方且顶端端面开设有槽体的吸附架、以及设置在吸附架底端端面上并可与三根顶管内部贯通的连接件；本实用新型可以便捷地对晶圆进行稳定升降，避免了晶圆在升降时出现跳片或偏移的情况出现。
本实用新型一种晶圆升降结构在权利要求书中公布了：1.一种晶圆升降结构，包括底座1、设置在底座1上的升降组件、以及设置在升降组件上并对晶圆端面进行吸附固定的吸附组件，其特征在于，升降组件包括三根呈圆周阵列垂直设置在底座1上方的顶管8、以及设置在底座1上并控制三根顶管8在底座1上方进行升降运动的升降组件，顶管8底端连接吸附装置； 吸附组件包括设置在三根顶管8顶端上方且顶端端面开设有槽体的吸附架、以及设置在吸附架底端端面上并可与三根顶管8内部贯通的连接件。
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