东进世美肯株式会社咸昊完获国家专利权
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龙图腾网获悉东进世美肯株式会社申请的专利包括覆盖层的有机发光元件以及适用于上述有机发光元件的覆盖层用化合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112436095B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010869900.5，技术领域涉及：H10K50/10；该发明授权包括覆盖层的有机发光元件以及适用于上述有机发光元件的覆盖层用化合物是由咸昊完;安贤哲;金东骏;李东炫;闵丙哲;李萤振;安慈恩;权桐热;李成圭设计研发完成，并于2020-08-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本包括覆盖层的有机发光元件以及适用于上述有机发光元件的覆盖层用化合物在说明书摘要公布了：本发明涉及一种包括覆盖层的有机发光元件以及适用于上述有机发光元件的覆盖层用化合物，提供一种上述覆盖层包括在450nm下的折射率为2.26以上且在430nm下的衰减系数值在大于0.10且小于0.17的范围内的化合物的有机发光元件以及适用于上述有机发光元件的覆盖层用化合物。
本发明授权包括覆盖层的有机发光元件以及适用于上述有机发光元件的覆盖层用化合物在权利要求书中公布了：1.一种覆盖层用化合物，其特征在于： 是有机发光元件的覆盖层用化合物， 以下述化学式1表示, 化学式1 在上述化学式1中， A、B、C各自独立地为取代或未取代的C6～C50的芳基、或取代或未取代的C2～C50的杂芳基，A、B、C中的任一个以上以下述化学式1-1表示， L1至L3各自独立地为直接结合、取代或未取代的C6～C50的亚芳基、或取代或未取代的C2～C50的杂亚芳基， 化学式1-1 在上述化学式1-1中， X彼此各自独立地为C、CR、N、O、S、NR或CRR`，其中，R以及R`各自独立地为氢、氘、卤素、硝基、腈基、取代或未取代的C1～C30的烷基、取代或未取代的C2～C30的烯基、取代或未取代的C1～C30的烷氧基、取代或未取代的C1～C30的巯基、取代或未取代的C6～C50的芳基、或取代或未取代的C2～C50的杂芳基。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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