拓荆科技(上海)有限公司张艳娟获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆科技(上海)有限公司申请的专利一种加热盘及化学气相沉积装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223087915U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422358149.9,技术领域涉及:C23C16/46;该实用新型一种加热盘及化学气相沉积装置是由张艳娟;朱涛;吴凤丽;牛新平;张佳琦设计研发完成,并于2024-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种加热盘及化学气相沉积装置在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种加热盘及化学气相沉积装置,加热盘用于承载晶圆以及调整晶圆的温度,所述加热盘包括加热盘本体、内嵌件以及调高组件,所述加热盘本体的表面开设有固定槽,所述内嵌件设置于所述固定槽内且延伸出所述加热盘本体的表面,所述晶圆置于所述内嵌件上,所述调高组件设置在所述固定槽的槽口处,所述内嵌件固定于所述调高组件内且能够跟随所述调高组件上下移动,以调整所述加热盘本体的表面与所述晶圆之间的距离。本实用新型中,由于调高组件的设置,使得内嵌件仅有顶部露在外面,在调节高度时,操作工具作用于调高组件的外周面,不会与内嵌件接触,因此不会影响内嵌件,保护了其结构的稳定性,避免被损坏。
本实用新型一种加热盘及化学气相沉积装置在权利要求书中公布了:1.一种加热盘,用于承载晶圆及调整晶圆的温度,其特征在于,所述加热盘包括加热盘本体、内嵌件以及调高组件,所述加热盘本体的表面开设有固定槽,所述内嵌件设置于所述固定槽内且延伸出所述加热盘本体的表面,所述晶圆置于所述内嵌件上,所述调高组件设置在所述固定槽的槽口处,所述内嵌件固定于所述调高组件内且能够跟随所述调高组件上下移动,以调整所述加热盘本体的表面与所述晶圆之间的距离。
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