昆山龙腾光电股份有限公司焦恩吉获国家专利权
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龙图腾网获悉昆山龙腾光电股份有限公司申请的专利干蚀刻机下电极和干蚀刻机获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223092811U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422193311.6,技术领域涉及:H01J37/32;该实用新型干蚀刻机下电极和干蚀刻机是由焦恩吉设计研发完成,并于2024-09-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本干蚀刻机下电极和干蚀刻机在说明书摘要公布了:本实用新型实施例公开了一种干蚀刻机下电极和干蚀刻机,干蚀刻机下电极包括:基体、电极层、介质层和土堤,电极层位于基体一侧;介质层位于电极层远离基体一侧;土堤位于电极层远离基体一侧,且土堤围绕介质层设置;其中,至少部分土堤在远离基体一侧的表面上设置有导槽。本实用新型实施例提供的技术方案,通过在土堤远离基体一侧的表面上设置导槽,使得土堤表面不再是光滑的平面,从而增加土堤的粗糙度,以便降低土堤与待刻蚀件之间的粘附性,避免出现待刻蚀件破片的风险。且由于导槽的存在,可以减少对土堤的打磨次数,减轻对下电极造成损坏,有利于延长下电极的保养时间。
本实用新型干蚀刻机下电极和干蚀刻机在权利要求书中公布了:1.一种干蚀刻机下电极,其特征在于,包括: 基体; 电极层,所述电极层位于所述基体一侧; 介质层,所述介质层位于所述电极层远离所述基体一侧; 土堤,所述土堤位于所述电极层远离所述基体一侧,且所述土堤围绕所述介质层设置; 其中,至少部分所述土堤在远离所述基体一侧的表面上设置有导槽。
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