浙江大立科技股份有限公司许献美获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江大立科技股份有限公司申请的专利芯片清洁装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223092821U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422115550.X,技术领域涉及:H01L21/67;该实用新型芯片清洁装置是由许献美;李衍晓;钱剑;潘峰;吴高军;姜骥;姜利军设计研发完成,并于2024-08-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本芯片清洁装置在说明书摘要公布了:本实用新型提供一种芯片清洁装置。芯片清洁装置包括:清洁吸头,用于吸入芯片表面的污染物,清洁吸头进一步包括吸附面、贯穿吸附面的吸尘口、位于清洁吸头内并与吸尘口连接的吸尘通道、以及位于两相邻吸尘口之间的向清洁吸头内部凹陷的避让槽;连接器,连接至清洁吸头远离吸附面的一端;真空集尘组件,连接至连接器,用于提供真空吸力并收集污染物;清洁吸头、连接器以及真空集尘组件形成真空通道。上述技术方案通过清洁吸头、连接器与真空集尘组件建立起真空连接,真空集尘组件不仅为整个清洁装置提供真空吸力,还负责高效收集并过滤所有被吸入的颗粒污染物,确保清洁过程既彻底又环保,不会产生二次污染。
本实用新型芯片清洁装置在权利要求书中公布了:1.一种芯片清洁装置,其特征在于,包括: 清洁吸头,用于吸入所述芯片表面的污染物,所述清洁吸头进一步包括吸附面、贯穿所述吸附面的吸尘口、位于所述清洁吸头内并与所述吸尘口连接的吸尘通道、以及位于两相邻所述吸尘口之间的向所述清洁吸头内部凹陷的避让槽; 连接器,连接至所述清洁吸头远离所述吸附面的一端; 真空集尘组件,连接至所述连接器,用于提供真空吸力并收集所述污染物; 所述清洁吸头、所述连接器以及所述真空集尘组件形成真空通道。
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