拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司顾颜俣获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司申请的专利一种喷淋板及喷淋头获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223087906U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202421934001.9,技术领域涉及:C23C16/455;该实用新型一种喷淋板及喷淋头是由顾颜俣;费腾设计研发完成,并于2024-08-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种喷淋板及喷淋头在说明书摘要公布了:本实用新型提供了一种喷淋板及一种喷淋头。所述喷淋板朝向工艺腔室的第一表面;以及朝向喷淋头进气口的第二表面,其中,所述第二表面上设有多条紊流沟槽,以及多个通气孔,所述多个通气孔呈非径向分布,并被设于各条所述紊流沟槽内。通过采用上述喷淋板,本实用新型能够改变喷淋头表面流场的流动状态,以减少喷淋头表面颗粒脱落,并提升薄膜平整度,从而提升半导体制造工艺的精度。
本实用新型一种喷淋板及喷淋头在权利要求书中公布了:1.一种喷淋板,其特征在于,包括: 朝向工艺腔室的第一表面;以及 朝向喷淋头进气口的第二表面,其中,所述第二表面上设有多条紊流沟槽,以及多个通气孔,所述多个通气孔呈非径向分布,并被设于各条所述紊流沟槽内。
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