西安泰金新能科技股份有限公司王超获国家专利权
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龙图腾网获悉西安泰金新能科技股份有限公司申请的专利一种阴极辊用高均匀性及高晶粒度焊接钛筒的制作方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116079342B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310041063.0,技术领域涉及:B23P15/00;该发明授权一种阴极辊用高均匀性及高晶粒度焊接钛筒的制作方法是由王超;张乐;韩坤炎;王思琦;沈楚;何秀玲;冯庆;杨勃;李博;苗东;李耀辉设计研发完成,并于2023-01-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种阴极辊用高均匀性及高晶粒度焊接钛筒的制作方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种阴极辊用高均匀性及高晶粒度焊接钛筒的制作方法,属于电解铜箔生产设备领域。包括以下步骤:在四辊卷板机上对TA1钛板进行卷制;对TA1钛筒开缝处进行坡口加工及焊前预处理,采用窄间隙激光焊接法,以激光束空间螺旋式摆动模式对TA1钛筒的开缝进行焊接;焊接完成后在TA1钛筒表面涂刷高温水玻璃涂层,进行高、中、低温加热和高、中、低温锻打;对锻打后的TA1钛筒进行热处理;对TA1钛筒内表面和外表面进行粗加工;将TA1钛筒安装到四辊卷板机上进行矫圆处理;卸下TA1钛筒,采用超声波冲击法去除TA1钛筒表面残余应力,对TA1钛筒表面进行精加工。本发明具有焊接效率高、焊缝及焊接热影响区窄、TA1钛筒整体晶粒均匀细小及残余应力低等优点。
本发明授权一种阴极辊用高均匀性及高晶粒度焊接钛筒的制作方法在权利要求书中公布了:1.一种阴极辊用高均匀性及高晶粒度焊接钛筒的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括以下步骤: 步骤一、对来料TA1纯钛板材进行测量、检测及预处理; 步骤二、在四辊卷板机上安装TA1纯钛板材,对其进行卷圆操作,包括对中、退料、预弯和卷制,得到TA1钛筒,然后卸下筒体; 步骤三、对TA1钛筒开缝处进行坡口加工; 步骤四、对开缝TA1钛筒进行焊前预处理; 步骤五、采用窄间隙激光焊接法,在惰性保护气体的保护下,以激光束空间螺旋式摆动模式对TA1钛筒的开缝进行焊接; 步骤六、第一层焊接结束后,清理焊道,然后重复进行单层单道焊接,直至TA1钛筒开缝处填满,形成整条焊缝,完成焊接,并对TA1钛筒内外焊缝表面进行再次清理,得到焊接后的TA1钛筒; 步骤七、将焊接后的TA1钛筒表面涂刷高温水玻璃涂层,放入井式高温电阻炉内进行第一次高温加热;其加热工艺为以7℃min~10℃min的加热速度加热至540℃~570℃,保温20~30min,再以9℃min~13℃min的加热速度加热至830℃~860℃,保温30~40min,最后以9℃min~13℃min的加热速度加热至1050℃~1080℃,保温40~50min; 步骤八、将高温加热后的焊接TA1钛筒取出,并在其外部套上石棉,同时在锻压机的下砧子表面加垫石棉垫,配合预先预热好的模具,移到锻压机上并通过锻压机的上砧子对其整体进行第一次高温锻打;始锻温度为950~980℃,终锻温度为890~920℃; 步骤九、将经过高温锻打后的TA1钛筒表面涂刷高温水玻璃涂层,放入井式高温电阻炉内进行第二次中温加热;其加热工艺为以7℃min~10℃min的加热速度加热至530℃~560℃,保温20~30min,再以9℃min~13℃min的加热速度加热至830℃~850℃,保温40~50min; 步骤十、将中温加热后的TA1钛筒取出,并在其外部套上石棉,同时在锻压机的下砧子表面加垫石棉垫,配合预先预热好的模具,移到锻压机上并通过锻压机的上砧子对其整体进行第二次中温锻打;始锻温度为735~745℃,终锻温度为685~700℃; 步骤十一、将经过中温锻打后的TA1钛筒表面涂刷高温水玻璃涂层,放入井式高温电阻炉内进行第三次低温加热;其加热工艺为以7℃min~10℃min的加热速度加热至645℃~675℃,保温40~50min; 步骤十二、将低温加热后的TA1钛筒取出,并在其外部套上石棉,同时在锻压机的下砧子表面加垫石棉垫,配合预先预热好的模具,移到锻压机上并通过锻压机的上砧子对其整体进行第三次低温锻打;始锻温度为545~575℃,终锻温度为505~515℃; 步骤十三、将经锻压机三次高、中、低温锻打后的TA1钛筒进行空冷至室温,之后对TA1钛筒进行热处理,以细化TA1钛筒整体的晶粒; 步骤十四、对热处理后的TA1钛筒内表面和外表面进行粗加工,使其内表面的粗糙度Ra≤6.2μm,外表面粗糙度Ra≤4.8μm; 步骤十五、将表面处理后的TA1钛筒安装到四辊卷板机上进行矫圆处理,处理完毕后卸下TA1钛筒; 步骤十六、采用超声波冲击法去除TA1钛筒表面残余应力; 步骤十七、对TA1钛筒表面进行精加工,使其内表面粗糙度Ra≤3.2μm,外表面粗糙度Ra≤0.8μm。
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