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龙图腾网获悉宁波新鑫玻璃科技有限公司申请的专利一种连续镀膜电子磁控溅射装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116065130B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310026652.1，技术领域涉及：C23C14/56；该发明授权一种连续镀膜电子磁控溅射装置是由励佩燕设计研发完成，并于2023-01-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种连续镀膜电子磁控溅射装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种连续镀膜电子磁控溅射装置，属于连续磁控溅射镀膜技术领域，包括真空室、缓冲隔离室、预真空室，真空室与多个缓冲隔离室及多个预真空室相互连通并一字排开，真空室居中设置其两端与缓冲隔离室连通，缓冲隔离室一端与预真空室连通，还包括：第一传送架、第二传送架、镀材架、靶材架；第一传送架用于输送镀材依次穿过真空室、缓冲隔离室及预真空室；第二传送架一端的预真空室的侧边延伸至另一端的预真空室中，第二传送架用于输送靶材穿过真空室及缓冲隔离室，预真空室侧边设有取放靶材的柜门；镀材架用于盛放固定镀材，镀材架放置于第一传送架上并与其滑动配合；靶材架用于盛放固定靶材，靶材架放置于第二传送架并上与其滑动配。

本发明授权一种连续镀膜电子磁控溅射装置在权利要求书中公布了：1.一种连续镀膜电子磁控溅射装置，包括真空室（1）、缓冲隔离室（2）、预真空室（3），所述真空室（1）与多个缓冲隔离室（2）及多个预真空室（3）相互连通并一字排开，所述真空室（1）居中设置其两端与缓冲隔离室（2）连通，所述缓冲隔离室（2）一端与预真空室（3）连通，其特征在于，还包括： 第一传送架（4），所述第一传送架（4）用于输送镀材依次穿过真空室（1）、缓冲隔离室（2）及预真空室（3）； 第二传送架（5），所述第二传送架（5）一端的预真空室（3）的侧边延伸至另一端的预真空室（3）中，所述第二传送架（5）用于输送靶材穿过真空室（1）及缓冲隔离室（2），所述预真空室（3）侧边设有取放靶材的柜门； 镀材架（6），用于盛放固定镀材，所述镀材架（6）放置于第一传送架（4）上并与其滑动配合； 靶材架（7），用于盛放固定靶材，所述靶材架（7）放置于第二传送架（5）并上与其滑动配合； 所述镀材架（6）由两个空心横杆与两个空心纵杆首尾相连组成，所述纵杆内部安装有与第二丝杆（61）摩擦配合的固定件（62），所述纵杆侧边开设有滑槽，所述固定件（62）由滑槽向外穿出纵杆并与滑动配合，所述第二丝杆（61）两端穿入横杆内部，其中一个所述横杆内部安装有与第二丝杆（61）齿传动配合的驱动件（63），多个所述固定件（62）分布均布在镀材表面，所述驱动件（63）驱使第二丝杆（61）转动控制固定件（62）在镀材上移动。

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