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龙图腾网获悉上海复享光学股份有限公司申请的专利等离子体工艺制程监测方法及其监测系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115799026B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211641013.8，技术领域涉及：H01J37/244；该发明授权等离子体工艺制程监测方法及其监测系统是由陆祺峰;沈唐尧;贺晓龙;崔靖;殷海玮;方源设计研发完成，并于2022-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本等离子体工艺制程监测方法及其监测系统在说明书摘要公布了：本发明涉及一种等离子体工艺制程监测方法及其监测系统，包括：将电动光阑装置安装于入射狭缝与光学探头之间；在刻蚀时，实时采集光源的光谱信号，调节透光孔的尺寸，使光谱信号的像素响应值控制在像素饱和阈值范围内；将光谱信号通过傅里叶变换转换成频域信号；通过寻峰算法结合窗函数对频域光谱信号进行频域滤波；将滤波后的频域信号通过傅里叶逆变换转换成时域信号；从时域信号中提取出特定波长反射光的干涉信号；计算出刻蚀速率和当前刻蚀深度；在当前刻蚀深度等于预设刻蚀终点深度时，发送到达刻蚀终点的提醒信息。本发明能够避免光谱信号过曝，通过将背景光信号滤去以获取更准确的刻蚀速率和刻蚀深度，提高等离子体工艺制程监测的准确性。

本发明授权等离子体工艺制程监测方法及其监测系统在权利要求书中公布了：1.一种等离子体工艺制程监测方法，其特征在于，包括如下步骤： 提供光源、光学探头、光谱检测设备、电动光阑装置，将所述光学探头连接于所述光谱检测设备，所提供的电动光阑装置上形成有尺寸可调的透光孔，将所述电动光阑装置安装于所述光谱检测设备的入射狭缝与所述光学探头之间，并使所述透光孔的中心与所述入射狭缝的中心对齐设置； 所提供的光源为宽谱光源，在等离子体刻蚀过程中，所述光源以固定闪烁频率进行闪烁，利用所述光谱检测设备以高于所述固定闪烁频率两倍及以上的采谱速率采集时域光谱信号，并通过调节所述透光孔的尺寸，进而调节所述入射狭缝处的进光量，以使所采集到的时域光谱信号的像素响应值控制在所述光谱检测设备上探测器的像素饱和阈值范围内； 将所采集到的时域光谱信号通过傅里叶变换转换成频域光谱信号； 通过寻峰算法结合窗函数对所述频域光谱信号进行频域滤波； 将滤波后的频域光谱信号通过傅里叶逆变换转换成时域光谱信号，并从所述时域光谱信号中提取特定波长反射光的时域干涉信号； 根据所述时域干涉信号上两个相邻波峰或相邻波谷之间的时间差、特定波长以及对应的折射率计算出所述时间差内对应的等离子体刻蚀速率，并结合刻蚀时间，计算出当前刻蚀深度； 在所述当前刻蚀深度等于预设刻蚀终点深度时，发送到达等离子体刻蚀终点的提醒信息； 在对所述频域光谱信号进行频域滤波时，通过寻峰算法获取所述频域光谱信号在所述固定闪烁频率附近的峰值和半峰宽，并利用窗函数过滤掉所述频域光谱信号中与所述固定闪烁频率的距离大于预设距离值的信号波，从而得到滤波后的频域光谱信号； 所述寻峰算法能够在所述频域光谱信号中寻找到所述固定闪烁频率附近的频率信号峰位并计算频率信号峰位的位置以及半峰宽。

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