苏州博众半导体有限公司刘青函获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州博众半导体有限公司申请的专利光学成像系统、成像模组、电子设备及光学成像方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117991501B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211370053.3,技术领域涉及:G02B26/10;该发明授权光学成像系统、成像模组、电子设备及光学成像方法是由刘青函;季林涛;黄海亭;张雷设计研发完成,并于2022-11-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学成像系统、成像模组、电子设备及光学成像方法在说明书摘要公布了:本发明公开一种光学成像系统、成像模组、电子设备及光学成像方法,光学成像系统至少包括单帧成像系统和激光标记系统,单帧成像系统包括沿光轴从物面到像面依次设置的物镜、第一分光镜、反射镜扫描单元和管透镜,激光标记系统包括向发射激光的第一激光器以及沿第一激光器的光路依次设置的第一透镜、针孔阵列、第二透镜和光圈;第一激光器发出的激光经第一透镜整形为平行光束照亮针孔阵列,再经由第二透镜、第一光圈、第一分光镜和物镜将针孔阵列投影到物面上。在单帧成像系统的基础上增加激光标记系统,利用激光标记点标记每个单帧子视场的位置,为子视场拼接提供精确的对位精度,从而补偿扫描反射镜漂移带来的视场拼接误差。
本发明授权光学成像系统、成像模组、电子设备及光学成像方法在权利要求书中公布了:1.一种光学成像系统,通过图像拼接获得大视场图像,其特征在于, 包括单帧成像系统100和激光标记系统200; 所述单帧成像系统100包括沿光轴从物面101到像面依次设置的物镜102、第一分光镜103、反射镜扫描单元400和管透镜105;所述反射扫描单元包括第一扫描反射镜401、第二扫描反射镜402和中继模块,所述第一扫描反射镜401设置在所述物镜102的光阑处,所述第二扫描反射镜402设置在所述管透镜105的光阑处,所述中继模块设置在所述第一扫描反射镜401与所述第二扫描反射镜402之间,用于使所述物镜102的光阑中继成像到所述管透镜105的光阑处;通过调节所述第一扫描反射镜401和所述第二扫描反射镜402的角度,能够使所述单帧成像系统100的单帧成像视场沿X方向和Y方向扫描移动;所述单帧成像系统100的功能是实现单帧子视场的高分辨率成像;其中,所述中继模块包括第一中继透镜403和第二中继透镜404,所述第二中继透镜404设置在所述第一中继透镜403与所述第二扫描反射镜402之间,并且能够沿所述光轴在所述第一中继透镜403与所述第二扫描反射镜402之间移动; 所述激光标记系统200包括向所述物面101发射激光的第一激光器201以及沿所述第一激光器201的光路依次设置的第一透镜202、针孔阵列203、第二透镜204和光圈205;所述第一激光器201发出的激光经所述第一透镜202整形为平行光束照亮所述针孔阵列203,再经由所述第二透镜204、所述光圈205、所述第一分光镜103和所述物镜102将所述针孔阵列203投影到所述物面101上。
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