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上海大学任伟获国家专利权

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龙图腾网获悉上海大学申请的专利一种利用气相输运法制备GeI2单晶的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115558990B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211201265.9,技术领域涉及:C30B25/00;该发明授权一种利用气相输运法制备GeI2单晶的方法是由任伟;陈睿;孔向阳;陈阳阳;刘畅设计研发完成,并于2022-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。

一种利用气相输运法制备GeI2单晶的方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种利用气相输运法制备GeI2单晶的方法,使用氧化锗、次磷酸、氢碘酸、碘化铯为原料进行CsGeI3的粉末合成,在石英管的底部放入CsGeI3粉末,对石英管进行氩气清洗后抽真空,抽真空后密封石英管;使用布里奇曼炉对石英管进行加热、保温,然后梯度降温即可在石英管冷区获得GeI2单晶,石英管底部所剩余的为碘化铯,并且这部分碘化铯可重新用于CsGeI3粉末的合成。本发明提供了一种流程简单、易于工业化生产、重复率高、产率高、单晶质量高、成本低廉的气相传输制备高质量GeI2单晶的方法。

本发明授权一种利用气相输运法制备GeI2单晶的方法在权利要求书中公布了:1.一种利用气相输运法制备GeI2单晶的方法,其特征在于:使用CsGeI3钙钛矿粉末为原料;将CsGeI3钙钛矿粉末置于石英管底部,使用氮气清洗石英管至少三次后抽真空至气压不10Pa以下;然后使用加热炉对石英管进行加热、保温、缓慢提拉降温,即可在石英管内顶部冷区获得六方片状黄色透明GeI2单晶;加热炉所设置的加热温度为430-450℃,控制石英管内上端冷区的温度不高于240℃。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人上海大学,其通讯地址为:200444 上海市宝山区上大路99号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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