东洋纺株式会社多多见央获国家专利权
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龙图腾网获悉东洋纺株式会社申请的专利透明导电性薄膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115699220B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180038806.8，技术领域涉及：H01B5/14；该发明授权透明导电性薄膜是由多多见央;宫崎皓平设计研发完成，并于2021-06-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本透明导电性薄膜在说明书摘要公布了：提供一种透明导电性薄膜，该透明导电性薄膜在需要被设为三维形状的显示器、触摸面板、照相机等的防雾罩、电磁波屏蔽等中使用时，总透光率、表面电阻、具有基于成型加工的导电性的拉伸率的每一个具有优异的特性。一种透明导电性薄膜，具有透明塑料薄膜基材和透明金属氧化物层，在透明塑料薄膜基材上的至少一面侧依次具有金属纳米线层和透明金属氧化物层，透明导电性薄膜的总透光率JIS‑K7361‑1为75％以上且95％以下，透明导电性薄膜的表面电阻值为1～150Ω□，以及相对于未拉伸的透明导电性薄膜的长度在+10％以上且+200％以下的范围进行拉伸的情况下，具有导电性。
本发明授权透明导电性薄膜在权利要求书中公布了：1.一种透明导电性薄膜，具有透明塑料薄膜基材和透明金属氧化物层， 在所述透明塑料薄膜基材上的至少一面侧依次具有金属纳米线层和透明金属氧化物层， 透明导电性薄膜的总透光率JIS-K7361-1为75％以上且95％以下， 透明导电性薄膜的表面电阻值为1～150Ω□，以及 相对于未拉伸的透明导电性薄膜的长度在+10%以上且+200%以下的范围进行拉伸的情况下，具有导电性， 该透明导电性薄膜被配置为：透明金属氧化物层覆盖所述金属纳米线层的至少一部分，进而附着于所述透明塑料薄膜基材， 金属纳米线层的厚度为0.10～1.00μm，进而 透明金属氧化物层的基于荧光X射线测定的厚度为2～30nm。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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