东京毅力科创株式会社木镰英司获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置和基板处理方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113745127B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110544014.X,技术领域涉及:H01L21/67;该发明授权基板处理装置和基板处理方法是由木镰英司;竹内千明设计研发完成,并于2021-05-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置和基板处理方法在说明书摘要公布了:本发明提供基板处理装置和基板处理方法。提供一种能够使处理的面内均匀性提高的技术。本公开的一技术方案所涉及的基板处理装置包括:处理容器,其具有大致圆筒形状;气体喷嘴,其沿着所述处理容器的内壁内侧在铅垂方向上延伸设置,在内部形成气体流路;以及气体喷出部,其设于所述处理容器之上,与所述气体流路连通,对自所述气体喷嘴导入的气体进行分配并将其自所述处理容器的外周部喷出。
本发明授权基板处理装置和基板处理方法在权利要求书中公布了:1.一种基板处理装置,其中, 该基板处理装置包括: 处理容器,其具有大致圆筒形状; 处理气体喷嘴,其沿着所述处理容器的内壁内侧在铅垂方向上延伸设置,在该处理气体喷嘴的长度方向上开设有多个气体孔,其中,所述处理气体喷嘴将处理气体自所述多个气体孔向所述处理容器的中心侧喷出; 稀释气体喷嘴,其沿着所述处理容器的内壁内侧在铅垂方向上延伸设置,与所述处理气体喷嘴空开间隔地配设,在内部形成用于稀释所述处理气体的稀释气体的气体流路;以及 稀释气体喷出部,其设于所述处理容器之上,与所述气体流路连通,对自所述稀释气体喷嘴导入的所述稀释气体进行分配并将其自所述处理容器的外周部向所述处理容器的中心侧喷出。
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