富士胶片电子材料(苏州)有限公司许良锐获国家专利权
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龙图腾网获悉富士胶片电子材料(苏州)有限公司申请的专利半导体制造用药液的制造装置及制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119971891B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510459266.0，技术领域涉及：B01F35/71；该发明授权半导体制造用药液的制造装置及制造方法是由许良锐;杨星设计研发完成，并于2025-04-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体制造用药液的制造装置及制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体加工领域，本发明公开了一种半导体制造用药液的制造装置及制造方法，该装置包括罐、气体流路、过滤器、弯曲部，其构成所述气体流路的一部分；液体检测传感器，其设置在所述气体流路中比所述上升区间更靠近所述罐侧，对浸入所述气体流路中的液体进行检测；以及机构，当所述液体检测传感器检测到所述液体时，所述机构实施浸入所述气体流路中的所述液体的排出、所述液体向所述罐中的注入中断以及所述气体流路的封闭之中的至少一者，以解决气液交换用气体流路的过滤器发生网眼堵塞问题。
本发明授权半导体制造用药液的制造装置及制造方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体制造用药液的制造装置，其特征在于，包括： 罐，其容纳作为所述药液的原料的至少一种液体，且进行所述液体的注入和排出； 气体流路，其一端与所述罐连接，另一端向外部开放，并且用于在进行所述液体的注入和排出时对所述罐进行气体的导入和排出； 过滤器，其设置在所述气体流路中，对从所述气体流路的开放端吸入或排出的气体进行过滤； 弯曲部，其构成所述气体流路的一部分，包括在从所述罐向所述过滤器的方向上随着朝向所述过滤器而下降的下降区间、以及在所述下降区间之后随着朝向所述过滤器而上升的上升区间； 液体检测传感器，其设置在所述气体流路中比所述上升区间更靠近所述罐侧，对浸入所述气体流路中的液体进行检测；以及 机构，当所述液体检测传感器检测到所述液体时，所述机构实施浸入所述气体流路中的所述液体的排出、所述液体向所述罐中的注入中断以及所述气体流路的封闭之中的至少一者； 所述机构包括当所述液体检测传感器检测到所述液体时实施浸入所述气体流路中的所述液体的排出的排液机构； 所述排液机构包括排液流路，所述排液流路在所述液体检测传感器与所述过滤器之间与所述气体流路连接。
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