Document
拖动滑块完成拼图
个人中心

预订订单
服务订单
发布专利 发布成果 人才入驻 发布商标 发布需求

在线咨询

联系我们

龙图腾公众号
首页 专利交易 IP管家助手 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
当前位置 : 首页 > 专利喜报 > 无锡先为科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权

无锡先为科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

龙图腾网获悉无锡先为科技有限公司申请的专利一种晶圆处理装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223103070U

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422407240.5,技术领域涉及:C23C16/458;该实用新型一种晶圆处理装置是由请求不公布姓名设计研发完成,并于2024-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。

一种晶圆处理装置在说明书摘要公布了:本申请公开了一种晶圆处理装置,属于半导体加工技术领域,本申请实施例中的晶圆处理装置,包括基座与承载组件,基座具有容置槽,容置槽具有底壁和侧壁,基座具有第一方向,侧壁自底壁所在平面沿第一方向延伸;承载组件设置于容置槽内,承载组件的外周壁与侧壁之间设有间隙;侧壁和或承载组件的外周壁设有回流槽,回流槽具有槽壁与槽口,槽口位于侧壁和或承载组件的外周壁上并与间隙连通,沿第一方向,槽壁与底壁之间具有最大距离amm,回流槽的槽口与底壁之间具有最大距离bmm,满足:a>b;槽壁与底壁之间的最小距离与槽口与底壁之间的最小距离相等。回流槽的结构能够减轻衬底周围反应气体所受到的气流干扰,保证衬底的反应质量。

本实用新型一种晶圆处理装置在权利要求书中公布了:1.一种晶圆处理装置,其特征在于,包括: 基座1,所述基座1具有容置槽10,所述容置槽10具有底壁101和侧壁102,所述基座1具有第一方向X,所述侧壁自所述底壁所在平面沿所述第一方向X延伸; 承载组件2,所述承载组件2设置于所述容置槽10内,所述承载组件2的外周壁21与所述侧壁102之间设有间隙3; 所述侧壁102和或所述承载组件2的外周壁21设有回流槽4,所述回流槽4具有槽壁40与槽口400,所述槽口400位于所述承载组件2的外周壁21和或所述侧壁102上并与所述间隙3连通,沿所述第一方向X,所述槽壁40与所述底壁101之间具有最大距离amm,所述回流槽4的槽口400与所述底壁101之间具有最大距离bmm,满足:a>b; 所述槽壁40与所述底壁101之间的最小距离与所述槽口400与所述底壁101之间的最小距离相等。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人无锡先为科技有限公司,其通讯地址为:214000 江苏省无锡市新吴区新梅路58号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由AI智能生成
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。