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龙图腾网获悉中国航发北京航空材料研究院申请的专利一种复合结构稀土改性钨涂层及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116590688B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310299745.1，技术领域涉及：C23C16/32；该发明授权一种复合结构稀土改性钨涂层及其制备方法是由许振华;王鑫;甄真;戴建伟;牟仁德设计研发完成，并于2023-03-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种复合结构稀土改性钨涂层及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明是一种复合结构稀土改性钨涂层及其制备方法，该方法是采用化学气相沉积工艺，以Gd颗粒、Sm颗粒、WF6气体和相关工艺气体为原料，在钴基高温合金表面制备出具有复合结构的Gd2C3WSm2O3抗氧化涂层，该方法通过控制化学气相沉积设备的真空室加热温度、真空度、外置反应发生器温度、工艺气体流量、沉积时间等因素，在高温合金表面上制备出以Gd2C3为界面层、W为主相涂层、Sm2O3为封堵层的复合结构抗氧化涂层。该抗氧化涂层具有氧空位低、致密性好、高热膨胀系数、高温物相稳定以及与高温合金基体的界面化学相容性匹配，适合于1150℃以上的高温氧化腐蚀环境下使用，能提高涡轮叶片材料的工作服役温度和确保基材维持良好的力学性能。

本发明授权一种复合结构稀土改性钨涂层及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种复合结构稀土改性钨涂层的制备方法，其特征在于：该钨涂层适用于钴基高温合金表面，为三层结构，由钴基高温合金表面向上依次为Gd2C3界面层、W涂层、Sm2O3封堵层，该制备方法采用化学气相沉积工艺，该制备方法中采用的固体材料为Gd颗粒和Sm颗粒，其中Gd元素、Sm元素的重量百分比含量均大于99%；该制备方法中采用的工艺气体为：H2气体、Ar气体、HCl气体、CH4气体、CO气体、CO2气体和WF6气体；该制备方法的步骤包括： 步骤一、在钴基高温合金表面制备Gd2C3界面层，其工艺参数为：H2气体流量20Lmin~28Lmin、Ar气体流量10Lmin~18Lmin、HCl气体流量3.8Lmin~4.4Lmin、CH4气体流量12Lmin~22Lmin、外置GdCl3反应发生器温度630℃~670℃、真空室的真空度380mbar~420mbar、真空室的加热温度880℃~910℃、沉积时间60min~90min； 步骤二、在Gd2C3界面层上制备W涂层，其工艺参数为：H2气体流量32Lmin~40Lmin、Ar气体流量22Lmin~30Lmin、WF6气体流量6.1Lmin~6.7Lmin、真空室的真空度150mbar~190mbar、真空室的加热温度1030℃~1070℃、沉积时间300min~330min； 步骤三、在W涂层上制备Sm2O3封堵层，其工艺参数为：H2气体流量26Lmin~34Lmin、HCl气体流量4.2Lmin~4.8Lmin、CO气体流量15Lmin~19Lmin、CO2气体流量26Lmin~34Lmin、外置SmCl3反应发生器温度470℃~510℃、真空室的真空度80mbar~120mbar、真空室的加热温度1100℃~1140℃、沉积时间60min~90min。

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