盛吉盛半导体科技(北京)有限公司余先炜获国家专利权
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龙图腾网获悉盛吉盛半导体科技(北京)有限公司申请的专利电感耦合等离子体装置及半导体薄膜设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115295389B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211014291.0，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权电感耦合等离子体装置及半导体薄膜设备是由余先炜;田才忠;王美玲;林保璋设计研发完成，并于2022-08-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本电感耦合等离子体装置及半导体薄膜设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种电感耦合等离子体装置及半导体薄膜设备，该电感耦合等离子体装置包括：等离子体装置本体、隔离盖板、天线和屏蔽件；其中，隔离盖板盖设于等离子体装置本体上，以形成真空腔室，天线设置于隔离盖板的上方，屏蔽件设置于隔离盖板上，且处于隔离盖板与天线之间；天线包括多个并排设置的子天线，多个子天线为并联连接；屏蔽件包括直条状结构的第一构件和多个第二构件，多个第二构件沿第一构件的长度方向间隔设置，且垂直相交于第一构件。本发明通过并排设置多个子天线，以及在子天线与隔离盖板之间设置屏蔽件，解决电感耦合等离子体装置的腔室内等离子体均匀性差的问题。
本发明授权电感耦合等离子体装置及半导体薄膜设备在权利要求书中公布了：1.一种电感耦合等离子体装置，其特征在于，包括：等离子体装置本体、隔离盖板、天线和屏蔽件； 其中，所述隔离盖板盖设于所述等离子体装置本体上，以形成真空腔室，所述天线设置于所述隔离盖板的上方，所述屏蔽件设置于所述隔离盖板上，且处于所述隔离盖板与所述天线之间； 所述天线包括多个并排设置的子天线，多个所述子天线为并联连接； 所述屏蔽件包括直条状结构的第一构件和多个第二构件，多个所述第二构件沿所述第一构件的长度方向间隔设置，且垂直相交于所述第一构件； 所述第一构件和多个所述第二构件之间以及多个所述第二构件两两之间中至少部分的长度不同，所述第一构件或多个所述第二构件中长度最大者平行于多个所述子天线排列方向； 多个所述第二构件以所述第一构件和或处于所述第一构件中心的所述第二构件为中心线对称设置。
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