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拓荆科技股份有限公司王卓获国家专利权

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龙图腾网获悉拓荆科技股份有限公司申请的专利用于薄膜沉积设备中绝缘柱升降状态的检测方法及系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114783899B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210386812.9,技术领域涉及:H01L21/66;该发明授权用于薄膜沉积设备中绝缘柱升降状态的检测方法及系统是由王卓;王琳琳;杨艳设计研发完成,并于2022-04-13向国家知识产权局提交的专利申请。

用于薄膜沉积设备中绝缘柱升降状态的检测方法及系统在说明书摘要公布了:本发明公开了一种用于薄膜沉积设备中绝缘柱升降状态的检测方法及系统,检测方法包括检测绝缘柱上的晶圆的最高处至预设平面之间的竖直高度值,所述预设平面为所述绝缘柱处于正常状态时,绝缘柱的上端端面所在的平面;依据所检测的所述竖直高度值与所述晶圆的厚度阈值范围比较判断:若所述竖直高度值位于所述晶圆的厚度阈值范围内,则判断所述绝缘柱处于正常状态;否则,判断所述绝缘柱处于异常状态,一旦绝缘柱的升降状态存在异常,则可控制机械手臂停止进行取片动作,进而避免机械手臂与晶圆发生碰撞,从降低腔体碎片概率、机械手指撞片损伤的概率,减少设备故障时间以及晶圆异常沉积造成的电弧硬件损伤。

本发明授权用于薄膜沉积设备中绝缘柱升降状态的检测方法及系统在权利要求书中公布了:1.一种用于薄膜沉积设备中绝缘柱升降状态的检测方法,其特征在于,包括: 检测绝缘柱上的晶圆的最高处至预设平面之间的竖直高度值,所述预设平面为所述绝缘柱处于正常状态时,绝缘柱的上端端面所在的平面; 定义所述晶圆的厚度阈值范围包括由高温以及沉积薄膜所引起的所述晶圆发生翘曲后的厚度上限值和厚度下限值; 依据所检测的所述竖直高度值与所述晶圆的厚度阈值范围比较判断: 若所述竖直高度值位于所述晶圆的厚度阈值范围内,则判断所述绝缘柱处于正常状态;否则,判断所述绝缘柱处于异常状态。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人拓荆科技股份有限公司,其通讯地址为:110179 辽宁省沈阳市浑南区水家900号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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