深圳中科飞测科技股份有限公司陈鲁获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳中科飞测科技股份有限公司申请的专利检测方法和检测系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115876795B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111163111.0，技术领域涉及：G01N21/95；该发明授权检测方法和检测系统是由陈鲁;方一;黄有为;张嵩设计研发完成，并于2021-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本检测方法和检测系统在说明书摘要公布了：一种检测方法和检测系统，所述检测方法在执行第一扫描检测时，根据所获取所述待测物表面的第一检测信息确定待测物表面所具有的第一目标缺陷的信息；在执行第二检测扫描时，根据所述第二探测光斑与所述第一目标缺陷之间的位置关系，控制第二探测光束以使照射到所述第一目标缺陷所在位置处的第二探测光斑的功率密度小于所述第二入射功率密度，以避免第二探测光斑照射在所述第一目标缺陷处导致第一目标缺陷的炸裂，从而可以避免晶圆的二次污染。
本发明授权检测方法和检测系统在权利要求书中公布了：1.一种检测方法，用于对待测物进行检测，其特征在于，包括： 产生第一探测光束，所述第一探测光束以第一入射功率密度入射至待测物表面形成第一探测光斑； 通过所述第一探测光斑对所述待测物表面执行第一扫描检测，获取所述待测物表面的第一检测信息； 基于所述第一检测信息，获取待测物表面存在的第一目标缺陷的位置信息；所述第一目标缺陷的尺寸大于或等于预设的尺寸阈值； 产生第二探测光束，所述第二探测光束以第二入射功率密度入射至所述待测物表面形成第二探测光斑；所述第二入射功率密度大于或等于所述第一入射功率密度； 通过所述第二探测光斑对所述待测物表面执行第二扫描检测，获取所述待测物表面的第二检测信息；其中，在执行所述第二扫描检测的过程中，根据所述第二探测光斑与所述第一目标缺陷之间的位置关系，控制第二探测光束以使照射到所述第一目标缺陷所在位置处的第二探测光斑的功率密度小于所述第二入射功率密度； 基于所述第一检测信息和所述第二检测信息，获取所述待测物表面的缺陷信息。
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