东京毅力科创株式会社内藤启获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理方法和基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114300332B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111138400.5，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权基板处理方法和基板处理装置是由内藤启;三好秀典;土场重树设计研发完成，并于2021-09-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法和基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够适当地降低等离子体处理中的基板背面的金属污染。基板处理装置具有：处理容器，在所述处理容器的内部对基板进行处理；等离子体生成空间，其形成于所述处理容器的内部；处理空间，其经由分隔板而与所述等离子体生成空间连通；载置台，其设置于所述处理空间的内部，在所述载置台的上表面载置基板；以及升降机构，其使基板在所述载置台上进行升降，其中，在所述处理空间中的基板的等离子体处理中，使用所述升降机构使基板进行升降，来使该等离子体处理中的基板发生电位变化。
本发明授权基板处理方法和基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，是利用基板处理装置对基板进行处理的方法， 所述基板处理装置具有： 处理容器，在所述处理容器的内部对基板进行处理； 等离子体生成空间，其形成于所述处理容器的内部； 处理空间，其经由分隔板而与所述等离子体生成空间连通； 载置台，其设置于所述处理空间的内部，在所述载置台的上表面载置基板；以及 升降机构，其使基板在所述载置台上进行升降， 其中，在所述处理空间中的用于对基板进行蚀刻处理、扩散处理或者成膜处理的等离子体处理中，使用所述升降机构使基板进行升降，以使所述基板从远离所述载置台的状态变为载置于所述载置台的状态，从而使该等离子体处理中的基板发生电位变化， 其中，在利用所述升降机构使基板远离了所述载置台的状态下开始进行所述等离子体处理，在该等离子体处理期间，利用所述升降机构使基板下降并将基板载置于所述载置台。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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