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龙图腾网获悉星火工业有限公司申请的专利用于事故耐受核燃料、粒子加速器、和航空航天前沿的金属和陶瓷纳米涂层的方法和设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113474482B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080016512.0，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权用于事故耐受核燃料、粒子加速器、和航空航天前沿的金属和陶瓷纳米涂层的方法和设备是由布莱恩·E·尤尔兹克;罗伯特·A·斯图伯斯;伊凡·谢尔卡诺夫;托马斯·詹姆斯·霍拉汉;伊恩·F·亨莱因设计研发完成，并于2020-02-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于事故耐受核燃料、粒子加速器、和航空航天前沿的金属和陶瓷纳米涂层的方法和设备在说明书摘要公布了：描述一种系统，包括：溅射靶；磁元件阵列，其包括多组磁体，所述多组磁体被布置为具有沿所述溅射靶的长度延伸的霍耳效应区域。细长的溅射电极材料管介于所述磁阵列与一对象之间，所述对象拟沉积来自所述溅射靶的溅射材料。在直流高功率激冲磁控溅射操作过程中，所述系统被构造通过以下方式产生和控制离子和中性粒子通量而对所述对象的表面执行沉积：提供真空设备，其包含溅射靶固持电极；第一产生具有高电流负直流DC脉冲的高功率脉冲等离子体磁控放电至所述溅射靶固持电极；在终止所述负DC脉冲之后，第二产生可构造的正电压突跳脉冲至所述溅射靶固持电极。

本发明授权用于事故耐受核燃料、粒子加速器、和航空航天前沿的金属和陶瓷纳米涂层的方法和设备在权利要求书中公布了：1.一种系统，包括： 溅射靶，其成形为缸或准缸的形式，且由溅射靶材料制成，使得来自密集等离子体区域的离子撞击溅射靶产生溅射离子和中性物而入射到衬底上； 磁元件阵列，其包括多组永磁体，所述多组永磁体被布置为具有沿所述溅射靶的长度延伸的霍耳效应区域； 其中，细长的溅射电极材料管介于所述磁阵列与一对象之间，所述对象拟沉积来自所述溅射靶的溅射材料； 其中，等离子体的有效电流密度在0.1－10Acm2的范围内； 其中，在所述等离子体磁控放电操作过程中，所述系统被构造通过以下方式产生和控制离子和中性粒子通量而对于对象表面进行改性： 提供真空设备，其包含溅射靶固持电极； 第一产生具有高电流负直流（DC）脉冲的高功率脉冲等离子体磁控放电至所述溅射靶固持电极； 在终止所述负DC脉冲之后，第二产生可构造的正电压突跳脉冲至所述溅射靶固持电极； 所述磁元件阵列沿连续蜿蜒路径物理布置； 其中所述连续蜿蜒路径包括转向构形磁组件，其中所述转向构形磁组件磁调适以相对于所述连续蜿蜒路径的中心线产生所希望的磁控放电等离子体密度变化。

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