瑞声声学科技(深圳)有限公司张秉和获国家专利权
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龙图腾网获悉瑞声声学科技(深圳)有限公司申请的专利一种MEMS器件的制造方法及MEMS器件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115367694B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210973004.2，技术领域涉及：B81C1/00；该发明授权一种MEMS器件的制造方法及MEMS器件是由张秉和;黎家健设计研发完成，并于2022-08-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种MEMS器件的制造方法及MEMS器件在说明书摘要公布了：本申请提供一种MEMS器件的制造方法及MEMS器件，该方法包括在牺牲层的表面的至少部分沉积薄膜，在薄膜加工出通孔，去除牺牲层中被薄膜所覆盖的至少部分材料，牺牲层中被去除的材料从通孔排出，以在牺牲层形成空腔，在薄膜的背离牺牲层的表面沉积密封层，密封通孔。相比现有技术中的制造方法，本申请的制造方法仅需沉积一层薄膜，缩短生产周期，并且具有可靠的现场密封能力。
本发明授权一种MEMS器件的制造方法及MEMS器件在权利要求书中公布了：1.一种MEMS器件的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括： 在牺牲层的表面的至少部分沉积薄膜，其中，薄膜包括金属材料； 在所述牺牲层的表面的至少部分沉积结构层，其中，所述结构层包括金属氧化物； 去除所述结构层中覆盖所述薄膜的部分材料，以形成裸露所述薄膜的部分材料的镂空部，以及保留压住所述薄膜边缘的台阶； 在所述薄膜加工出通孔； 去除所述牺牲层中被所述薄膜所覆盖的至少部分材料，所述牺牲层中被去除的材料从所述通孔排出，以在所述牺牲层形成空腔； 在所述薄膜的背离所述牺牲层的表面沉积密封层，密封所述通孔。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人瑞声声学科技(深圳)有限公司，其通讯地址为：518057 广东省深圳市南山区高新区南区粤兴三道6号南京大学深圳产学研大楼A座6楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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