成都骏创科技有限公司陈高龙获国家专利权
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龙图腾网获悉成都骏创科技有限公司申请的专利一种高反光静电吸附装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223130524U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422429804.5，技术领域涉及：B25B11/00；该实用新型一种高反光静电吸附装置是由陈高龙设计研发完成，并于2024-10-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高反光静电吸附装置在说明书摘要公布了：本实用新型涉及静电吸附技术领域，具体涉及一种高反光静电吸附装置，包括基座以及贴附在基座上用于吸附待检测产品的静电吸盘，还包括布置在所述静电吸盘上方的光源，所述光源和静电吸盘之间具有用于容纳待测产品的检测空间；所述静电吸盘包括：介电层，配置成适于供所述光源发出的光束透射穿过；反射层，配置成适于将所述光束反射至待测产品处以照亮位于该待测产品上的检测标记；电极层，配置在所述反射层的下方；以及基体，配置成适于承载所述介电层、反射层和电极层。本申请将光源布置在静电吸盘的上方，光源发出的光束穿过介电层后通过反射层反射至待测产品处以照亮待测产品上的检测标记，基座为整体加工，能有效保证静电吸盘的平整度。
本实用新型一种高反光静电吸附装置在权利要求书中公布了：1.一种高反光静电吸附装置，包括基座以及贴附在基座上用于吸附待检测产品的静电吸盘，其特征在于： 还包括布置在所述静电吸盘上方的光源，所述光源和静电吸盘之间具有用于容纳待测产品的检测空间； 所述静电吸盘包括： 介电层，配置成适于供所述光源发出的光束透射穿过； 反射层，配置成适于将所述光束反射至待测产品处以照亮位于该待测产品上的检测标记； 电极层，配置在所述反射层的下方；以及 基体，配置成适于承载所述介电层、反射层和电极层。
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