畅的新材料科技(上海)有限公司郑亮亮获国家专利权
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龙图腾网获悉畅的新材料科技(上海)有限公司申请的专利一种高反射率光学薄膜制备方法及高反射率光学薄膜获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120056405B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510518753.X,技术领域涉及:B29C48/08;该发明授权一种高反射率光学薄膜制备方法及高反射率光学薄膜是由郑亮亮;汤文成;陈名扬;何悦祺;王利新设计研发完成,并于2025-04-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高反射率光学薄膜制备方法及高反射率光学薄膜在说明书摘要公布了:本发明涉及光学薄膜的技术领域,具体公开了一种高反射率光学薄膜制备方法。该方法选择折射率差值≥0.08的两种树脂,树脂在不同的螺杆挤出机中挤出,经过等离子体活化树脂熔体表面,活化后的树脂进行堆叠,经过梯度温控模头挤出成膜,得到高反射率光学薄膜。该光学薄膜的300~400nm波段透过率达到88%以上,反射率达到92%以上,加工良率高,光学薄膜层间稳定性优异,可以承受120℃以上的高温。
本发明授权一种高反射率光学薄膜制备方法及高反射率光学薄膜在权利要求书中公布了:1.一种高反射率光学薄膜制备方法,其特征在于:包括如下步骤: 树脂选择:选择折射率差值≥0.08的两种树脂,两种树脂中,一种树脂折射率范围在1.58~1.64,另外一种树脂折射率范围在1.35~1.49,两种树脂的组合为以下任意一种:聚碳酸酯与聚甲基丙烯酸甲酯组合、聚苯乙烯与聚甲基丙烯酸甲酯组合、聚醚酰亚胺与聚甲基丙烯酸甲酯组合、聚苯乙烯与聚四氟乙烯组合或者聚亚苯基砜树脂聚四氟乙烯组合; 挤出:两种树脂分别在不同的螺杆挤出机中挤出; 等离子体活化:两种树脂在高温熔融状态下汇合,经过等离子体处理装置激活分子链上自由基,等离子体处理装置对树脂熔体的活化深度为5~10nm,等离子体装置处理的功率密度50~100Wcm2,处理时间为0.3~1s,等离子体装置为脉冲等离子体; 分配:经过等离子体活化后的两种树脂熔体在自适应分配器中堆叠,流经梯度温控模头挤出成膜,得到高反射率光学薄膜; 所述高反射率光学薄膜在300~400nm处的反射率≥92%,热变形温度≥120℃。
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