拓荆科技(上海)有限公司王随虎获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆科技(上海)有限公司申请的专利喷淋头结构和半导体器件的加工设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223150643U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422065840.8，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型喷淋头结构和半导体器件的加工设备是由王随虎;吴凤丽;杨华龙;赵坤;张翔宇设计研发完成，并于2024-08-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本喷淋头结构和半导体器件的加工设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种喷淋头结构和半导体器件的加工设备。该喷淋头结构其前端连接等离子体源，后端连接反应腔，所述喷淋头结构包括：石英喷淋盘，用于将从所述等离子体源中获取到的具有还原性的原子喷淋到所述反应腔内，以还原所述反应腔内晶圆表面的金属氧化膜，其中，所述石英喷淋盘上的喷淋孔的孔径与所述前端的进气口的距离正相关。通过上述喷淋头结构，能够降低具有还原性的原子在其传输过程中的复合率，提升了工艺气体的利用率，从而节省了能源和设备成本，并且还能够提高晶圆表面沉积薄膜的均匀性。
本实用新型喷淋头结构和半导体器件的加工设备在权利要求书中公布了：1.一种喷淋头结构，其前端连接等离子体源，后端连接反应腔，其特征在于，所述喷淋头结构包括： 石英喷淋盘，用于将从所述等离子体源中获取到的具有还原性的原子喷淋到所述反应腔内，以还原所述反应腔内晶圆表面的金属氧化膜，其中，所述石英喷淋盘上的喷淋孔的孔径与所述前端的进气口的距离正相关。
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