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龙图腾网获悉珠海基石科技有限公司申请的专利图案化材料、图案化组合物、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118652372B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411123243.4，技术领域涉及：C08F220/18；该发明授权图案化材料、图案化组合物、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制备方法是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2024-08-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本图案化材料、图案化组合物、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请实施例提供一种图案化材料、图案化组合物、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制备方法。该图案化材料的制备方法，包括：将第一单体、第二单体、含碘引发剂和有机碘化物催化剂混合，经聚合反应形成含碘聚合物；所述含碘聚合物进行脱碘处理，得到图案化材料，所述图案化材料包括式（I）所示的第一重复单元和式（II）所示的第二重复单元，其中R1选自极性基团，R2选自酸致分解基团，式（I），式（II）。该图案化材料的制备中采用了含碘引发剂和有机碘化物催化剂，并且进行了脱碘处理，避免了杂质元素对制得的图案化材料性能的影响，有利于半导体器件的制备和使用。

本发明授权图案化材料、图案化组合物、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种图案化组合物，其特征在于，包括图案化材料、光致产酸剂和第二溶剂，所述图案化材料包括式（I）所示的第一重复单元和式（II）所示的第二重复单元，其中R1选自极性基团，R2选自酸致分解基团，所述图案化材料的聚合物分散性指数小于1.4； 式（I）， 式（II）； 所述极性基团选自式（V）所示的基团，其中为连接位点，n1选自1至4中的整数，R1选自H、取代或未取代的烷基或者取代或未取代的烷氧基，R2选自O， 式（V）， 所述酸致分解基团选自式（VII）所示的基团，其中为连接位点，n5选自1至4中的整数，n6选自2至4中的整数，R5选自取代或未取代的烷基，R6选自H或者取代或未取代的烷基， 式（VII）； 所述图案化材料的制备方法包括： 将第一单体、第二单体、含碘引发剂和有机碘化物催化剂混合形成聚合反应液，经聚合反应形成含碘聚合物；所述聚合反应中，所述第一单体和所述第二单体的摩尔比为（3：7）-（7：3）； 所述含碘聚合物进行脱碘处理，得到图案化材料， 所述含碘引发剂的化学结构式如式（III）所示， 式（III）； 所述有机碘化物催化剂的化学结构式如式（IV）所示，其中R6、R7、R8和R9独立地选自取代或非取代的烷基或者取代或非取代的环烷基， 式（IV）。

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