买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉武汉大学申请的专利一种利用重复纹理约束的建筑物立面解析方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117292126B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311174932.3，技术领域涉及：G06V10/26；该发明授权一种利用重复纹理约束的建筑物立面解析方法是由张永军;岳冬冬;刘欣怡设计研发完成，并于2023-09-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种利用重复纹理约束的建筑物立面解析方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种利用重复纹理约束的建筑物立面解析方法、系统及电子设备，该方法包括：步骤1、数据准备，准备一组建筑物立面影像，并对影像进行语义标签标注得到语义图；步骤2、构建利用局部和行列方向重复纹理特征约束的Multi‑DRCNet网络，主要包含可以提取局部重复纹理与行列重复纹理特征的多层空洞卷积模块MD‑Module和多尺度行列卷积模块MRC‑Module；步骤3、利用公开建筑物立面数据训练Multi‑DRCNet网络并保存模型参数作为预训练权重；步骤4、加载步骤3保存的预训练权重并利用步骤1准备的建筑物立面数据微调Multi‑DRCNet网络，微调后的Multi‑DRCNet网络可用于解析建筑物立面影像。本发明能够有效解决树木等物体对建筑物立面带来的遮挡问题，提高立面解析精度，达到较好的目视解译效果。

本发明授权一种利用重复纹理约束的建筑物立面解析方法在权利要求书中公布了：1.一种利用重复纹理约束的建筑物立面解析方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤1，获取建筑物立面影像和对应的语义标签图，并进行数据预处理； 步骤2，构建利用局部和行列方向重复纹理特征约束的神经网络Multi-DRCNet，包括多层空洞卷积模块MD-Module和多尺度行列卷积模块MRC-Module； 所述Multi-DRCNet总体框架结构和U-Net一致，采用编码-解码结构，编码阶段使用一个预训练好的基础特征提取网络，解码阶段将U-Net上采样中的普通卷积层替换成多尺度行列卷积模块MRC-Module，在编码与解码中间加入MD-Module； 所述多层空洞卷积模块MD-Module包括多个空洞卷积，多尺度行列卷积模块MRC-Module包括多个不同方向的卷积； 步骤2中多层空洞卷积模块MD-Module的输入和输出均为特定大小的特征图，MD-Module包括5个空洞卷积操作，卷积核是大小为3的正方形，但是它们的扩张率不同，分别是1、2、4、8、16，最后将MD-Module的输入和五个空洞卷积模块的输出连接，经过一次常规的卷积调整输出的维度之后输出到上采样过程，最后输出； MD-Module中的每一次卷积后都有批归一化BN和ReLU激活； 步骤3，利用公开建筑物立面数据集训练Multi-DRCNet网络，并进行精度评价； 步骤4，加载在公开数据集训练好的权重，在步骤1准备的数据上微调训练好的神经网络，并利用微调好的网络解析建筑物立面。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉大学，其通讯地址为：430072 湖北省武汉市武昌区八一路299号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。