浙江大学郁发新获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江大学申请的专利晶圆曝光方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116184776B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310185221.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权晶圆曝光方法和系统是由郁发新;张立星;莫炯炯;开翠红设计研发完成，并于2023-03-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶圆曝光方法和系统在说明书摘要公布了：本申请公开了一种晶圆曝光方法和系统。晶圆曝光方法包括如下步骤：在晶圆表面划分多个曝光单元，包括位于晶圆内部区域的完整曝光单元以及位于晶圆边缘区域的不完整曝光单元；获取待曝光光刻层的焦距能量矩阵表；获取经初始曝光条件曝光后的各完整曝光单元的图形形貌和线宽；根据焦距能量矩阵表修正各完整曝光单元的曝光条件，使其图形形貌和线宽符合规格；根据不完整曝光单元邻近的完整曝光单元修正后的曝光条件修正不完整曝光单元的曝光条件。本申请通过根据完整曝光单元的图形形貌和线宽对其曝光条件进行修正，并通过不完整曝光单元邻近的完整曝光单元的曝光条件修正不完整曝光单元曝光条件，可极大改善晶圆面内图形形貌和线宽均匀性。
本发明授权晶圆曝光方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种晶圆曝光方法，其特征在于，包括如下步骤： 在晶圆的表面划分多个曝光单元，所述曝光单元包括位于所述晶圆内部区域的完整曝光单元以及位于所述晶圆边缘区域的不完整曝光单元； 获取待曝光光刻层的焦距能量矩阵表； 获取经初始曝光条件曝光后的各所述完整曝光单元的图形形貌和线宽； 根据所述焦距能量矩阵表修正各所述完整曝光单元的曝光条件，使所述完整曝光单元的图形形貌和线宽符合规格； 根据所述不完整曝光单元邻近的所述完整曝光单元的修正后的曝光条件修正所述不完整曝光单元的曝光条件，修正所述不完整曝光单元的曝光条件的方法包括：对所述不完整曝光单元邻近的所述完整曝光单元的多个曝光条件进行加权平均计算获得。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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