三星SDI株式会社沈秀姸获国家专利权
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龙图腾网获悉三星SDI株式会社申请的专利对铜进行抛光的化学机械抛光浆料组合物及铜膜抛光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116515399B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211421492.2，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权对铜进行抛光的化学机械抛光浆料组合物及铜膜抛光方法是由沈秀姸;李知虎;金龙国;崔世荣;黄慈英;金廷熙设计研发完成，并于2022-11-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本对铜进行抛光的化学机械抛光浆料组合物及铜膜抛光方法在说明书摘要公布了：本文中公开一种用于对铜进行抛光的化学机械抛光浆料组合物及使用所述化学机械抛光浆料组合物的铜膜抛光方法。所述化学机械抛光浆料组合物包括：选自极性溶剂及非极性溶剂中的至少一种溶剂；研磨剂；以及选自包括式1的化合物及包括式2的化合物中的至少一种化合物。
本发明授权对铜进行抛光的化学机械抛光浆料组合物及铜膜抛光方法在权利要求书中公布了：1.一种用于对铜进行抛光的化学机械抛光浆料组合物，包括： 选自极性溶剂及非极性溶剂中的至少一种溶剂； 研磨剂；以及 选自包括式1的化合物及包括式2的化合物中的至少一种化合物： [式1] 其中*是元素的连接位点， R1、R2、R3及R4各自独立地是单键或C1至C5亚烷基， M1、M2、M3及M4是OH或O-N+，其中N+是单价阳离子， a、b、c及d各自大于或等于0，且a+b+c+d不等于0， [式2] 其中*是元素的连接位点， R5、R6、R7、R8各自独立地是C1至C5亚烷基， M5及M6是OH或O-N+，其中N+是单价阳离子， a及b各自大于或等于0，且a+b不等于0， 其中所述化学机械抛光浆料组合物具有6到8的pH， 所述化学机械抛光浆料组合物包括0.001重量％到20重量％的所述研磨剂以及0.0001重量％到2重量％的所述至少一种化合物，且 所述化学机械抛光浆料组合物还包括0.001重量％到5重量％的腐蚀抑制剂以及0.01重量％到20重量％的螯合剂，其中所述腐蚀抑制剂包括唑类化合物，所述唑类化合物包括选自三唑类化合物及四唑类化合物当中的至少一者， 其中所述至少一种化合物具有1,000gmol至5,000gmol的重量平均分子量。
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