华中科技大学方海生获国家专利权
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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种用于调控高熵合金元素比例的磁控溅射方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115896721B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211414362.6，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种用于调控高熵合金元素比例的磁控溅射方法及系统是由方海生;李婕;李朝中;尹素萍设计研发完成，并于2022-11-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于调控高熵合金元素比例的磁控溅射方法及系统在说明书摘要公布了：本发明属于磁控溅射镀膜相关技术领域，其公开了一种用于调控高熵合金元素比例的磁控溅射方法及系统，方法包括：对磁控溅射单元的多个靶台电源分别进行调制，根据溅射量需求将靶台电源的直流电或脉冲交流电调制为不同频率、幅值或占空比的方波交流电，所述方波交流电的频率大于或等于kHz级，进而实现靶台在高电平时进行溅射，在低电平时停止溅射，实现不同靶台有效溅射时间的控制，进而控制不同高熵合金元素的溅射比例。本申请在高频交替溅射下实现高熵合金元素比例的调节，且避免了分层现象的产生。
本发明授权一种用于调控高熵合金元素比例的磁控溅射方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种用于调控高熵合金元素比例的磁控溅射系统，其特征在于，所述系统包括： 磁控溅射单元，所述磁控溅射单元包括多个靶台，所述靶台用于放置不同的靶材； 多个靶电源控制单元，所述靶电源控制单元与所述靶台的电源一一对应连接，用于对所述电源进行控制，所述靶电源控制单元包括PWM控制器和电压放大器，所述PWM控制器对电源进行调制，将直流电或脉冲电转化为方波交流电，所述方波交流电的频率大于或等于kHz级，所述电压放大器用于对电压进行调制； 对磁控溅射单元的多个靶台电源分别进行调制，根据溅射量需求将靶台电源的直流电或脉冲交流电调制为不同频率、幅值或占空比的方波交流电，进而实现靶台在高电平时进行溅射，在低电平时停止溅射，实现不同靶台有效溅射时间的控制，进而控制高熵合金中不同元素的溅射比例。
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