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龙图腾网获悉中国计量科学研究院申请的专利探测器探测效率的刻度方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115755154B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211268905.8，技术领域涉及：G01T7/00；该发明授权探测器探测效率的刻度方法是由郭思明;郭锴悦;郄晓雨;余涛设计研发完成，并于2022-10-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本探测器探测效率的刻度方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种探测器探测效率的刻度方法，利用蒙特卡罗模拟，得到探测器对不同能量X射线的探测效率，并计算K荧光辐射装置中辐射体产生的Kα、Kβ特征X射线的强度比值Lmc；实验测量辐射体的Kα和Kβ特征X射线的强度，并通过探测效率修正得到强度比值Lmea；更换K荧光辐射装置中的辐射体，并根据上述步骤计算得到多组的强度比值Lmc及强度比值Lmea；判断每组的强度比值Lmc与强度比值Lmea的误差是否小于预设值；若否，则调整探测器的晶体尺寸及死区厚度；重复循环上述步骤，直至每组强度比值Lmc与强度比值Lmea的误差小于预设值。上述探测器探测效率的刻度方法，能快速精确地对探测器的探测效率进行刻度，可避免放射源自身和环境限制，以及效率刻度偏差大的缺点。

本发明授权探测器探测效率的刻度方法在权利要求书中公布了：1.一种探测器探测效率的刻度方法，其特征在于，包括以下步骤： 利用蒙特卡罗模拟的方法，得到探测器对不同能量X射线的探测效率； 利用蒙特卡罗模拟的方法，计算K荧光辐射装置中辐射体产生的Kα、Kβ特征X射线的强度比值Lmc； 实验测量所述辐射体的Kα和Kβ特征X射线的强度iα、iβ，并通过所述探测效率修正得到强度比值Lmea，所述通过所述探测效率修正得到强度比值Lmea的步骤具体为：将实验所得到的Kα和Kβ特征X射线的强度iα、iβ，除以所述探测器对应能量下的探测效率，得到修正后的Kα和Kβ特征X射线的强度iα修正、iβ修正，并计算得到强度比值Lmea，其中Lmea=iα修正iβ修正； 更换所述K荧光辐射装置中的辐射体以产生不同能量的特征X射线，并根据上述步骤计算得到多组的强度比值Lmc及强度比值Lmea； 判断每组的所述强度比值Lmc与所述强度比值Lmea的误差是否小于预设值； 若否，则调整所述探测器的晶体尺寸及死区厚度； 重复循环上述步骤，直至每组所述强度比值Lmc与所述强度比值Lmea的误差小于预设值。

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