上海华力集成电路制造有限公司张月雨获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利OPC修正热点图形检查方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115268206B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210862834.8，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权OPC修正热点图形检查方法是由张月雨;汪悦设计研发完成，并于2022-07-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本OPC修正热点图形检查方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种OPC修正热点图形检查方法，包括：步骤一、对原始版图做N+M次OPC修正得到第一修正版图；N为期望收敛次数，M为附加循环次数。步骤二、对原始版图做N次OPC修正得到第二修正版图。步骤三、对第一和第二修正版图做差异检查并得到版图图形差异。步骤四、对版图图形差异的大小进行分类并根据分类得到对应类型的OPC修正热点图形。本发明不需要使用OPC模型进行模拟运算，能节省OPC热点图形检索时间，方便快速定位问题并进行优化解决，从而在OPC开发及优化中，能明显提升OPC开发及优化的效率。
本发明授权OPC修正热点图形检查方法在权利要求书中公布了：1.一种OPC修正热点图形检查方法，其特征在于，包括如下步骤： 步骤一、对原始版图做N+M次OPC修正得到第一修正版图；N为期望收敛次数，M为附加循环次数，所述第一修正版图作为收敛目标版图； N的取值范围为4＝N＝30； M取值越大修正结果越好，M取值范围为1＝M＝50； 步骤二、对所述原始版图做N次所述OPC修正得到第二修正版图； 步骤三、对所述第一修正版图和所述第二修正版图做差异检查并得到版图图形差异； 步骤四、对所述版图图形差异的大小进行分类并根据分类得到对应类型的OPC修正热点图形； 步骤五、如果步骤四中所述OPC修正热点图形完全消失或减少到符合量产要求，则以所述OPC修正的参数作为所述OPC修正的最终参数； 如果步骤四中所述OPC修正热点图形不符合量产要求，则根据所述OPC修正热点图形对OPC修正的参数进行优化，以减少所述版图图形差异为优化方向； 步骤六、以优化后的所述OPC修正的参数重复步骤二至步骤五； 步骤七、进行OPC验证检测以确认所述OPC修正的最终参数是否符合修正要求。
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