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龙图腾网获悉中科超精(南京)科技有限公司申请的专利一种基于蒙特卡罗扰动计算的散射线计算方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113850010B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110855129.0，技术领域涉及：G06F30/25；该发明授权一种基于蒙特卡罗扰动计算的散射线计算方法和系统是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2021-07-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于蒙特卡罗扰动计算的散射线计算方法和系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于蒙特卡罗扰动计算的散射线计算方法和系统，所述方法包括以下步骤：1蒙特卡罗辐射输运计算模型建立；2源粒子抽样；3源粒子偏移参数计算；4对该源粒子进行输运模拟；5计算当前模拟源粒子及其偏移到不同子射束后对二维平面测量设备的散射线计数贡献；6单位强度辐射源散射线贡献计算；所述系统包括以下模块：源抽样模块、输运模拟模块、数据处理模块以及系统的存储介质。本发明可有效提高蒙卡方法计算散射线的效率，实现高效精确的散射线计算。

本发明授权一种基于蒙特卡罗扰动计算的散射线计算方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种基于蒙特卡罗扰动计算的散射线计算方法，其特征在于，包括以下步骤： 1蒙特卡罗辐射输运计算模型建立：根据源分布信息、介质影像信息和二维平面测量设备信息建立蒙特卡罗辐射输运计算模型； 2源粒子抽样：将整个照射野按照一定大小的子野划分为n个子射束，按照源分布信息抽样获得源粒子参数ri0,Ωi0，根据源粒子位置确认源粒子所属子射束i0； 3源粒子偏移参数计算：将该源粒子偏移到其它子射束j0上，根据当前子射束源分布信息和偏移后子射束的源分布信息计算出源偏移修正参数Bis_Si0,j0＝Pj0rj0,Ωj0Pi0ri0,Ωi0，其中，Pi0ri0,Ωi0为在子射束i0中当前源粒子产生概率，Pj0rj0,Ωj0为偏移到子射束j0后，偏移后的源粒子产生概率； 4对该源粒子进行输运模拟：在粒子每前进一步时，将当前粒子偏移到其它子射束上，并基于扰动计算方法计算出当前步的偏移修正参数； 4.1第i个子射束的源粒子输运到第k步，起始点参数为ri,k,start，终点参数为ri,k,end，其中，i为当前粒子所在子射束编号，k为当前粒子输运步的编号，将第k步起始点偏移到其它子射束中，得到不同子射束下第k步的起始点坐标rj,k,start和rj,k,end，j为粒子偏移到的子射束编号； 4.2根据不同子射束下粒子输运第k步的起始点坐标，结合输运介质影像信息，计算当前粒子所在子射束i以及偏移到不同子射束j下粒子输运第k步经过的等效路径和同时根据起点坐标所在栅元材料获得粒子在第k步时的反应截面和计算得到第i个子射束源粒子输运第k步偏移到第j个子射束时的输运偏移修正参数： 4.3根据不同子射束下粒子输运第k步的终点坐标，结合输运介质影像信息，计算当前粒子第k步输运后反应由子射束i偏移子射束j下时的碰撞偏移修正参数其中，m为粒子真实输运时在第k步输运后发生碰撞的核素编号，为粒子真实输运时第k步输运后发生碰撞的核素的核子密度，为粒子输运第k步偏移到第j个子射束后对应终点坐标所在位置处第m中核素的核子密度； 4.4根据步骤4.2和4.3计算得到的输运偏移修正参数和碰撞偏移修正参数计算得到当前步的偏移修正参数 5计算当前模拟源粒子及其偏移到不同子射束后对二维平面测量设备的散射线贡献：当该源粒子输运模拟到二维测量平面设备x,y点时，统计该粒子对二维平面测量设备的散射线贡献Fluxix,y，同时根据步骤3和步骤4计算得到的偏移参数获取粒子偏移到不同子射束中的总偏移修正参数 其中为粒子输运第k步由子射束i偏移到子射束j中的偏移修正参数，最终统计得到该粒子偏移后各子射束对二维平面设备的散射线贡献Fluxjx,y＝Fluxix,y*Bis_Toti,j； 6单位强度辐射源散射线贡献计算：模拟完所有源粒子，统计并归一化各个子射束对二维平面设备的散射线贡献，再乘以单位强度辐射源出射的粒子数计算得到单位强度下所有子射束的散射线贡献值。

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