华邦电子股份有限公司杨峻昇获国家专利权
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龙图腾网获悉华邦电子股份有限公司申请的专利存储器组件及其形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115377103B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110548434.5，技术领域涉及：H10B12/00；该发明授权存储器组件及其形成方法是由杨峻昇;陈兴豪设计研发完成，并于2021-05-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本存储器组件及其形成方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种存储器组件，包括：衬底、多个位线结构、多个位线接触窗以及多个保护结构。衬底具有多个有源区。多个位线结构沿着X方向平行配置于衬底上。多个位线接触窗分别配置在多个位线结构与多个有源区的重叠处且电性连接多个位线结构与多个有源区。多个保护结构至少配置在多个位线接触窗的第一侧壁与第二侧壁上。另提供一种存储器组件的形成方法。
本发明授权存储器组件及其形成方法在权利要求书中公布了：1.一种存储器组件，其特征在于，包括： 衬底，具有多个有源区； 多个位线结构，沿着X方向平行配置于所述衬底上； 多个位线接触窗，分别配置在所述多个位线结构与所述多个有源区的重叠处且电性连接所述多个位线结构与所述多个有源区；以及 多个保护结构，其中所述多个保护结构的顶部低于所述多个位线结构，其中： 每一个保护结构以封闭路径的形式环绕相应的位线接触窗的第一侧壁、第二侧壁、第三侧壁以及第四侧壁，或 所述多个保护结构至少配置在所述多个位线接触窗的第一侧壁与第二侧壁上，还包括多个介电层分别配置在所述多个位线接触窗的第三侧壁与第四侧壁上，以封闭路径的形式环绕相应的位线接触窗的第一侧壁、第二侧壁、第三侧壁以及第四侧壁；以及 多条埋入式字线沿着Y方向平行配置于所述衬底中，其中每一个位线接触窗配置在相邻两条埋入式字线之间，其中每一个保护结构设置在超过相邻两条埋入字线的宽度的一半处，其中每一个保护结构自相应的位线接触窗的第一侧壁或第二侧壁延伸至相应的埋入式字线中。
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