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龙图腾网获悉新毅东(北京)科技有限公司申请的专利光刻设备中物镜中心偏移的测量方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120065650B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510550312.8，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻设备中物镜中心偏移的测量方法及装置是由张琪;符友银;沈全安;刘斌设计研发完成，并于2025-04-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本光刻设备中物镜中心偏移的测量方法及装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光刻设备中物镜中心偏移的测量方法及装置。测量方法包括：将掩膜版上预设图案的中心与物镜的中心对齐；其中，预设图案为中心对称图形；将待曝光的基板置于运动台，并将运动台的中心与物镜的理论投影中心对齐；移动基板对基板的预设待曝光区进行曝光；其中，预设待曝光区呈中心对称，且包括至少四个与运动台的中心距离相同的子待曝光区；获取曝光后的基板的最终实际图像，并获取基板曝光后对应的最终理论图像；将最终理论图像的感兴趣区域与最终实际图像进行相关性匹配以计算中心偏移；其中，感兴趣区域包括最终理论图像中对应预设待曝光区的至少部分。本发明能够提高中心偏移的测量精度。

本发明授权光刻设备中物镜中心偏移的测量方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种光刻设备中物镜中心偏移的测量方法，其特征在于，包括： 将掩膜版上预设图案的中心与所述物镜的中心对齐；其中，所述预设图案为中心对称图形； 将待曝光的基板置于运动台，并将所述运动台的中心与所述物镜的理论投影中心对齐； 移动所述基板对所述基板的预设待曝光区进行曝光；其中，所述预设待曝光区呈中心对称，且包括至少四个与所述运动台的中心距离相同的子待曝光区； 获取曝光后的所述基板的最终实际图像，并获取所述基板曝光后对应的最终理论图像； 将所述最终理论图像的感兴趣区域与所述最终实际图像进行相关性匹配以计算所述中心偏移；其中，所述感兴趣区域包括所述最终理论图像中对应所述预设待曝光区的至少部分； 其中，将最终理论图像的感兴趣区域与最终实际图像进行相关性匹配以计算中心偏移包括：将偏移量在感兴趣区域取值时，相关性最大时对应的偏移量作为中心偏移；相关性通过如下公式计算： ； 其中，i和j的上下限组成所述感兴趣区域，P0为所述最终实际图像，P5为所述最终理论图像，当R（m，n）最大时，m和n的值代表最终的中心偏移。

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