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龙图腾网获悉北京北旭电子材料有限公司;北旭(湖北)电子材料有限公司申请的专利一种用于光刻胶的涂布控制方法、系统及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120085518B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510543279.6，技术领域涉及：G03F7/16；该发明授权一种用于光刻胶的涂布控制方法、系统及设备是由李杨;张腾;朴大然;卢克军设计研发完成，并于2025-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于光刻胶的涂布控制方法、系统及设备在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于光刻胶的涂布控制方法、系统及设备，涉及半导体技术领域，包括：采集滴胶头的图像，进行滴胶偏离分析，获得第一位置偏离参数；采集基板夹持的图像，进行夹持偏离分析，获得第二位置偏离参数和角度偏离参数，结合第一位置偏离参数，计算获得位置偏离参数；根据位置偏离参数和角度偏离参数，进行旋涂预测，获得基板旋涂后的边缘胶量分布；根据边缘胶量分布，进行边缘去胶参数生成，获得边缘去胶参数分布，根据位置偏离参数和角度偏离参数进行补偿，获得补偿边缘去胶参数分布，对基板的多个边缘区域进行边缘去胶控制，完成涂布。本发明解决了现有技术中存在的光刻胶旋涂涂布不均、涂布质量低的技术问题。

本发明授权一种用于光刻胶的涂布控制方法、系统及设备在权利要求书中公布了：1.一种用于光刻胶的涂布控制方法，其特征在于，所述方法包括： 采集滴胶头的图像，进行滴胶偏离分析，获得第一位置偏离参数； 采集基板夹持的图像，进行夹持偏离分析，获得第二位置偏离参数和角度偏离参数，根据第一位置偏离参数和第二位置偏离参数，计算获得位置偏离参数； 根据所述位置偏离参数和角度偏离参数，进行旋涂预测，获得基板旋涂后的边缘胶量分布； 根据所述边缘胶量分布，进行边缘去胶参数生成，获得边缘去胶参数分布，根据所述位置偏离参数和角度偏离参数进行补偿，获得补偿边缘去胶参数分布，对基板的多个边缘区域进行边缘去胶控制，完成涂布，包括： 根据所述位置偏离参数和角度偏离参数，在旋涂数据库内进行检索，获得位置偏差出现率和角度偏差出现率，并计算获得偏差出现率； 获取所述旋涂数据库内不同位置偏离参数和角度偏离参数的平均偏差出现率； 判断所述偏差出现率是否大于等于所述平均偏差出现率； 若是，则不对边缘去胶参数分布进行补偿，若否，则计算所述偏差出现率与平均偏差出现率的差值幅度，作为补偿调整参数； 获取预设补偿系数； 采用所述补偿调整参数，对所述预设补偿系数进行调整计算，获得补偿系数； 采用所述补偿系数，对所述边缘去胶参数分布进行补偿调整计算，获得补偿边缘去胶参数分布； 按照所述补偿边缘去胶参数分布内的多个补偿边缘去胶参数，对基板的多个边缘区域进行边缘去胶控制，完成涂布，其中，旋涂数据库存储了根据历史时间内光刻胶旋涂的历史数据处理获取的样本位置偏离参数和样本角度偏离参数，或者实际测量获得的样本位置偏离参数和样本角度偏离参数。

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