沈阳青来微电子科技有限公司张磊获国家专利权
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龙图腾网获悉沈阳青来微电子科技有限公司申请的专利一种单分散均匀雾滴装置及雾化喷头喷孔阵列排布方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119634075B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411866664.6，技术领域涉及：B05B1/14；该发明授权一种单分散均匀雾滴装置及雾化喷头喷孔阵列排布方法是由张磊;孙雅东设计研发完成，并于2024-12-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种单分散均匀雾滴装置及雾化喷头喷孔阵列排布方法在说明书摘要公布了：本发明涉及微米级射流与均匀雾化技术领域，具体是一种单分散均匀雾滴装置及雾化喷头喷孔阵列排布方法，单分散均匀雾滴装置包括驱动源、供液装置和喷头；喷头为单分散雾化喷头，驱动源为超声信号发生系统，供液装置将恒压流体供给至喷头，喷头在超声发生系统的高频声波驱动下形成单分散喷雾；雾化喷头喷孔阵列排布方法：在临近喷孔板中央和两侧约束端形变微小区域，设置较小的喷孔间距；在喷孔板约束端和喷孔板中心之间的大形变区域设置较大的安全间距，以防止由于射流交汇导致的交汇。该装置及排布方法解决大规模阵列射流之间的相互干扰等问题；可有效提高单分散雾化液滴尺度和速度的可控性，从而产生尺度均一、速度集中的宏量微液滴。
本发明授权一种单分散均匀雾滴装置及雾化喷头喷孔阵列排布方法在权利要求书中公布了：1.一种单分散均匀雾滴装置，其特征在于，包括驱动源、供液装置（290）和喷头（140）；喷头（140）为单分散雾化喷头，驱动源为超声信号发生系统，供液装置（290）将恒压流体供给至喷头（140），喷头（140）在超声发生系统的高频声波驱动下形成单分散喷雾； 喷头（140）包括喷孔板（330）和耐压腔体（310），喷孔板（330）密封性地设置于耐压腔体（310）底部； 临近喷孔板（330）中央和两侧约束端的喷孔间距小于约束端和孔板中心之间区域的喷孔间距。
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