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龙图腾网获悉佛山市屹博电子科技有限公司申请的专利一种等离子体射流喷头及等离子体增强化学气相沉积设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119571293B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411859499.1，技术领域涉及：C23C16/513；该发明授权一种等离子体射流喷头及等离子体增强化学气相沉积设备是由孙鹏;詹同道设计研发完成，并于2024-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种等离子体射流喷头及等离子体增强化学气相沉积设备在说明书摘要公布了：本申请涉及等离子体镀膜技术领域，具体提供了一种等离子体射流喷头及等离子体增强化学气相沉积设备，该喷头包括：喷头本体，其具有等离子激发仓和反应仓；前驱体喷出管，位于反应仓内，其底部的高度小于进气口的高度；第一螺旋气流引导结构，其包括第一圆环安装板和多个挡流板，多个挡流板圆周阵列在第一圆环安装板上，挡流板顶部的高度大于进气口的高度，挡流板底部的高度小于进气口的高度且大于前驱体喷出管底部的高度，挡流板的板面与前驱体喷出管的轴心平行，挡流板的一侧朝向前驱体喷出管的轴心倾斜交；该喷头能够有效地解决由于部分微小液滴凝聚成超过成微米级的小液滴和或大液滴而导致前驱体材料在基体表面反应不充分和最终形成的薄膜的交联度低的问题。

本发明授权一种等离子体射流喷头及等离子体增强化学气相沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种等离子体射流喷头，其特征在于，所述等离子体射流喷头包括： 喷头本体，其具有等离子激发仓和反应仓，所述反应仓的侧壁设有与所述等离子激发仓的输出端连通的进气口，所述反应仓底部连通所述喷头本体的出口，所述等离子激发仓用于输出等离子体； 前驱体喷出管，位于所述反应仓内，其底部的高度小于所述进气口的高度，用于喷出雾化的前驱体材料； 第一螺旋气流引导结构，套设在所述前驱体喷出管外且安装在所述反应仓内，其包括第一圆环安装板和多个挡流板，多个所述挡流板圆周阵列在所述第一圆环安装板上，所述挡流板顶部的高度大于所述进气口的高度，所述挡流板底部的高度小于所述进气口的高度且大于所述前驱体喷出管底部的高度，所述挡流板的板面与所述前驱体喷出管的轴心平行，所述挡流板的一侧朝向所述前驱体喷出管的轴心倾斜； 第二螺旋气流引导结构，所述第二螺旋气流引导结构安装在喷头本体上且位于等离子激发仓的输入端，所述第二螺旋气流引导结构包括第二圆环安装板和多个倾斜通孔，所述第二圆环安装板的中心安装有电离组件，多个所述倾斜通孔圆周阵列在所述第二圆环安装板上，所述倾斜通孔的输入端与气体供应组件连通，多个所述倾斜通孔的输出端均位于所述等离子激发仓内。

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