华中科技大学;湖北光谷实验室谷洪刚获国家专利权
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龙图腾网获悉华中科技大学;湖北光谷实验室申请的专利一种基于深度学习的光刻缺陷检测方法及装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119579534B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411636573.3,技术领域涉及:G06T7/00;该发明授权一种基于深度学习的光刻缺陷检测方法及装置是由谷洪刚;梁昊阳;刘世元;刘力设计研发完成,并于2024-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于深度学习的光刻缺陷检测方法及装置在说明书摘要公布了:本申请属于人工智能和光学检测技术领域,具体公开了一种基于深度学习的光刻缺陷检测方法及装置,该方法包括:通过相干傅里叶散射法扫描各个有缺陷光刻样品,获取远场差分数据集,远场差分数据集包括缺陷标签数据和各个有缺陷光刻样品中各个扫描点对应的远场差分数据;基于远场差分数据集进行不对称分析,获取各个有缺陷光刻样品中各个扫描点对应的左右不对称信息、上下不对称信息和差分求和信息;利用三通道数据训练深度学习模型。本申请通过在收集到远场的衍射信息后,使用差分不对称分析的方法,得到三通道数据,作为深度学习模型的输入,深度学习模型能够自动学习缺陷信号的特征,提高系统的鲁棒性,实现通过神经网络进行光刻缺陷检测。
本发明授权一种基于深度学习的光刻缺陷检测方法及装置在权利要求书中公布了:1.一种基于深度学习的光刻缺陷检测方法,其特征在于,包括: 通过相干傅里叶散射法扫描各个有缺陷光刻样品,获取远场差分数据集,远场差分数据集包括各个有缺陷光刻样品对应的缺陷标签数据和各个有缺陷光刻样品中各个扫描点对应的远场差分数据,远场差分数据是针对扫描点,通过对有缺陷光刻样品对应的远场的衍射光强分布和无缺陷光刻样品对应的远场的衍射光强分布,进行做差分得到的; 基于远场差分数据集,对每个扫描点对应的远场差分数据进行不对称分析,获取各个有缺陷光刻样品中各个扫描点对应的左右不对称信息、上下不对称信息和差分求和信息; 基于各个有缺陷光刻样品对应的缺陷标签数据和各个有缺陷光刻样品中各个扫描点对应的左右不对称信息、上下不对称信息和差分求和信息,训练深度学习模型,深度学习模型用于检测光刻样品中的光刻缺陷。
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