拓荆科技(上海)有限公司李旭峰获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆科技(上海)有限公司申请的专利一种多通路混气装置及半导体设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223159119U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422455216.9，技术领域涉及：B01F25/20；该实用新型一种多通路混气装置及半导体设备是由李旭峰;吴凤丽;崔雨;李海龙;张驰设计研发完成，并于2024-10-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种多通路混气装置及半导体设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种多通路混气装置及半导体设备。多通路混气装置包括：混气主体、多个气体通道和出气通道；混气主体内部设有混气腔；多个气体通道开设于混气主体内部且环绕混气主体的中心分布，多个气体通道的一端均为进气端，多个气体通道的另一端均连通混气腔且朝向混气腔的中心；出气通道的一端连通混气腔，出气通道的另一端为出气端。本实用新型有效地解决了不同种类的气体混气不均匀的问题；气体在经过本实用新型的多通路混气装置时可进行气体对冲，因此不同气体能在混气腔内进行充分混合，再由出气通道流入下一环节中。
本实用新型一种多通路混气装置及半导体设备在权利要求书中公布了：1.一种多通路混气装置，其特征在于，包括： 混气主体，内部设有混气腔； 多个气体通道，开设于所述混气主体内部且环绕所述混气主体的中心分布，多个气体通道的一端均为进气端，多个气体通道的另一端均连通所述混气腔且朝向所述混气腔的中心； 出气通道，一端连通所述混气腔，另一端为出气端。
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