天虹科技股份有限公司沉祐德获国家专利权
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龙图腾网获悉天虹科技股份有限公司申请的专利具有翻转机构的真空腔体获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223163478U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422302279.0,技术领域涉及:C23C14/50;该实用新型具有翻转机构的真空腔体是由沉祐德;郭大豪;郑耀璿;刘国儒;易锦良设计研发完成,并于2024-09-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有翻转机构的真空腔体在说明书摘要公布了:本实用新型为一种具有翻转机构的真空腔体,主要包括一真空腔体及一翻转机构,其中翻转机构与真空腔体连接,并位于真空腔体的容置空间内。翻转机构主要包括一夹持单元及一翻转单元,其中夹持单元位于真空腔体的容置空间内,并用以夹持容置空间内的至少一基板。翻转单元位于真空腔体的容置空间内,并与夹持单元连接,其中翻转单元用以带动夹持单元翻转夹持单元夹持的基板。通过本实用新型所述的构造,可于沉积或蚀刻步骤中,翻转位于真空腔体内的基板,而不需要将基板取出真空腔体,有利于提高制造的效率及质量。
本实用新型具有翻转机构的真空腔体在权利要求书中公布了:1.一种具有翻转机构的真空腔体,其特征在于,包括: 一真空腔体,包括一容置空间;及 一翻转机构,与该真空腔体连接,还包括: 一夹持单元,位于该真空腔体的该容置空间内,并用于夹持至少一基板; 一翻转单元,与该夹持单元连接,其中该翻转单元用于带动该夹持单元,并在该真空腔体的该容置空间内翻转该夹持单元夹持的该基板。
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